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IntroductionofICAssemblyProcessIC封裝工藝簡介,艾,ICProcessFlow,Customer客戶,ICDesignIC設(shè)計,WaferFab晶圓制造,WaferProbe晶圓測試,Assembly除了BGA和CSP外,其他Package都會采用LeadFrame,BGA采用的是Substrate;,RawMaterialinAssembly(封裝原材料),【GoldWire】焊接金線,實現(xiàn)芯片和外部引線框架的電性和物理連接;金線采用的是99.99%的高純度金;同時,出于成本考慮,目前有采用銅線和鋁線工藝的。優(yōu)點是成本降低,同時工藝難度加大,良率降低;線徑?jīng)Q定可傳導(dǎo)的電流;0.8mil,1.0mil,1.3mils,1.5mils和2.0mils;,RawMaterialinAssembly(封裝原材料),【MoldCompound】塑封料/環(huán)氧樹脂,主要成分為:環(huán)氧樹脂及各種添加劑(固化劑,改性劑,脫模劑,染色劑,阻燃劑等);主要功能為:在熔融狀態(tài)下將Die和LeadFrame包裹起來,提供物理和電氣保護(hù),防止外界干擾;存放條件:零下5保存,常溫下需回溫24小時;,RawMaterialinAssembly(封裝原材料),成分為環(huán)氧樹脂填充金屬粉末(Ag);有三個作用:將Die固定在DiePad上;散熱作用,導(dǎo)電作用;-50以下存放,使用之前回溫24小時;,【Epoxy】銀漿,TypicalAssemblyProcessFlow,FOL/前段,EOL/中段,Plating/電鍍,EOL/后段,FinalTest/測試,FOLFrontofLine前段工藝,BackGrinding磨片,Wafer,WaferMount晶圓安裝,WaferSaw晶圓切割,WaferWash晶圓清洗,DieAttach芯片粘接,EpoxyCure銀漿固化,WireBond引線焊接,2ndOptical第二道光檢,3rdOptical第三道光檢,EOL,FOLBackGrinding背面減薄,Taping粘膠帶,BackGrinding磨片,De-Taping去膠帶,將從晶圓廠出來的Wafer進(jìn)行背面研磨,來減薄晶圓達(dá)到封裝需要的厚度(8mils10mils);磨片時,需要在正面(ActiveArea)貼膠帶保護(hù)電路區(qū)域同時研磨背面。研磨之后,去除膠帶,測量厚度;,FOLWaferSaw晶圓切割,WaferMount晶圓安裝,WaferSaw晶圓切割,WaferWash清洗,將晶圓粘貼在藍(lán)膜(Mylar)上,使得即使被切割開后,不會散落;通過SawBlade將整片Wafer切割成一個個獨立的Dice,方便后面的DieAttach等工序;WaferWash主要清洗Saw時候產(chǎn)生的各種粉塵,清潔Wafer;,FOLWaferSaw晶圓切割,WaferSawMachine,SawBlade(切割刀片):LifeTime:9001500M;SpindlierSpeed:3050Krpm:FeedSpeed:3050/s;,FOL2ndOpticalInspection二光檢查,主要是針對WaferSaw之后在顯微鏡下進(jìn)行Wafer的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品。,ChippingDie崩邊,FOLDieAttach芯片粘接,WriteEpoxy點銀漿,DieAttach芯片粘接,EpoxyCure銀漿固化,EpoxyStorage:零下50度存放;,EpoxyAging:使用之前回溫,除去氣泡;,EpoxyWriting:點銀漿于L/F的Pad上,Pattern可選;,FOLDieAttach芯片粘接,芯片拾取過程:1、EjectorPin從wafer下方的Mylar頂起芯片,使之便于脫離藍(lán)膜;2、Collect/Pickuphead從上方吸起芯片,完成從Wafer到L/F的運輸過程;3、Collect以一定的力將芯片Bond在點有銀漿的L/F的Pad上,具體位置可控;4、BondHeadResolution:X-0.2um;Y-0.5um;Z-1.25um;5、BondHeadSpeed:1.3m/s;,FOLDieAttach芯片粘接,EpoxyWrite:Coverage75%;,DieAttach:Placement99.95%的高純度的錫(Tin),為目前普遍采用的技術(shù),符合Rohs的要求;Tin-Lead:鉛錫合金。Tin占85%,Lead占15%,由于不符合Rohs,目前基本被淘汰;,EOLPostAnnealingBake(電鍍退火),目的:讓無鉛電鍍后的產(chǎn)品在高溫下烘烤一段時間,目的在于消除電鍍層潛在的晶須生長(WhiskerGrowth)的問題;條件:150+/-5C;2Hrs;,晶須,晶須,又叫Whisker,是指錫在長時間的潮濕環(huán)境和溫度變化環(huán)境下生長出的一種須狀晶體,可能導(dǎo)致產(chǎn)品引腳的短路。,EOLTrim&Form(切筋成型),Trim:將一條片的LeadFrame切割成單獨的Unit(IC)的過程;Form:對Trim后的IC產(chǎn)品進(jìn)行引腳成型,達(dá)到工藝需要求的形狀,并放置進(jìn)Tube或者Tray盤中;,EOLTrim&Form(切筋成型),CuttingTool&FormingPunch,CuttingDie,StripperPad,FormingDie,1,2,3,4,EOLFinalVisualInspection(第四道光檢),FinalVisualInspecti
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