鍍膜員工試題

1、鍍膜員工試題庫(kù)填空題 :1 .關(guān)機(jī)時(shí),關(guān)掉擴(kuò)散泵加熱，需要冷卻60分種以上 時(shí)間才可以關(guān)掉總電源2 .我們正常鍍膜過(guò)程中鏡片需要鍍膜的一面應(yīng)該向下 放置。3、寫(xiě)出+XP 的意思 向正方向調(diào) X 方向位置4 .新科Pt機(jī)SID1100中生產(chǎn)IR CUT濾色片，每層開(kāi)鍍時(shí)，TiO2材料的起始光控曲線方向向上SiO2 材料的光控曲線方向向下。5 .新科隆機(jī)SID1100中的離子源，有3片柵極，從上到下依次為T(mén)OP , MID , BOT ;柵極問(wèn)總 共有 12 片陶瓷片絕緣.6 .現(xiàn)在我們使用的鍍膜機(jī)光學(xué)控制方式有反射 式和 透射 式 兩種 ,昭和機(jī)屬于 透射 式新科隆機(jī)屬于 反射式，光馳機(jī)屬于反射

2、式。7 .相同蒸發(fā)條件下，餅料的SIO2,和顆粒狀的SIO2,餅料的SiO2所需的蒸發(fā)功率要高。8 .比較下列膜料正常蒸發(fā)功率，由大到小排列：MgF2 H4 SiO2 H4 > SiO2 > MgF29選擇下列光學(xué)原理： a光的反射原理b、光的折射原理c、光的干涉原理d、光的投射 原理（1）看到水中筷子是彎曲的,利用光的b （2）看到鏡子里自已像，利用光的a （3）光學(xué)薄膜利用光的 c10 .真空可以大致分為四段，分別為初真空 、 低真空 、 高真空 、 超高真空11 .在真空的定義范圍內(nèi)，高真空度范圍是10-1-10-6 Pa12 .電子槍分為180°槍和270

3、6;槍，而目前韓一機(jī)器的電子槍180 度， 光馳機(jī)器的電子槍180度，昭和機(jī)器的電子槍270 度，新柯隆機(jī)器的電子槍180 度，13 .鏡片放到鍍膜機(jī)后，關(guān)門(mén)加熱抽真空， 等到 真空度 和 溫度 到達(dá)， 兩者都滿足設(shè)定要求后，機(jī)器才能開(kāi)始鍍膜。14目前我們鍍膜機(jī)有兩種厚度控制方法：晶振控制 和 光控控制 、15昭和機(jī)器在沒(méi)有放光控監(jiān)控片下鍍膜時(shí)，光控曲線直線 形狀1&報(bào)警程序中PFC報(bào)警，其中PFC含義：POLYCOLD17、當(dāng)擴(kuò)散泵指示燈閃爍時(shí)說(shuō)明擴(kuò)散泵還在加熱中，還不能打開(kāi)高閥。18、當(dāng)擴(kuò)散泵指示燈不閃爍時(shí)說(shuō)明擴(kuò)散泵已加熱完成 ，可以正常工作。19、寫(xiě)出-YS 的意思 減少 Y 方

4、向電子槍光斑大小20、目前我們鍍膜機(jī)抽真空系統(tǒng)由機(jī)械泵 、 羅茨泵 、 擴(kuò)散泵 組成21、鍍膜機(jī)中，膜層厚度的記錄單位是：埃(A),與米(m)的換算關(guān)系是:10-10，速率的單位 是 : A/S .22、保持鍍膜機(jī)開(kāi)門(mén)時(shí)間盡可能的短，是為了防止真空室內(nèi)部的護(hù)板吸附空氣中的水汽 ，使鍍膜機(jī)的抽速變慢 ，影響產(chǎn)品的品質(zhì)。23、薄膜微觀結(jié)構(gòu)是柱狀 結(jié)構(gòu)，為了改善膜層結(jié)構(gòu)，提高聚集密度，分別出現(xiàn)了三種成膜工藝 離子輔助 、 反應(yīng)離子鍍、 濺射24 光學(xué)鍍膜機(jī)真空排氣系統(tǒng)中， 機(jī)械泵排氣原理： 機(jī)械壓縮排除氣體擴(kuò)散泵排氣原理： 靠蒸汽射流攜帶排除氣體25 、 POLYCOLD 工作原理： 利用低溫表面對(duì)

5、氣體進(jìn)行物理吸附排氣26、寫(xiě)出下列薄膜種類符號(hào)：（ 1）減反膜（ 2）、分束膜（ 3）內(nèi)反射（ 4）偏振膜27、寫(xiě)出下列真空度轉(zhuǎn)換關(guān)系：1Pa= 10-2 Mbar= 0.75E-2 Torr 1Torr= 133 Pa= 1.33 Mbar2&鍍單層MgF2,目前鍍的是500nm,晶振厚度是1000A,而現(xiàn)在需要鍍550nm,那么輸入晶振厚度約為 1100 A29該層晶振厚度是800A,現(xiàn)已鍍了 150A,由于某種原因充氣而需要加鍍，那么加鍍晶振厚度是 650 A30、寫(xiě)出鍍膜機(jī)各控制閥門(mén)的中文名稱：MV 高閥 DP 擴(kuò)散泵 RV 粗抽閥 SLV 細(xì)充氣閥FV 輔助閥31、光學(xué)玻璃B

6、K7 折射率為1.517則該玻璃表面單面反射率是,4.219% 。32、真空規(guī)管測(cè)量原理通過(guò)氣體放電方式產(chǎn)生電子，通過(guò)磁場(chǎng)使電子獲得能量將氣體分子電離33、石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個(gè)效應(yīng)，即壓電效應(yīng)和質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)。34長(zhǎng)波通膜系基本結(jié)構(gòu)公式 A/（0.5HL0.5H）Ap/G短波通膜系基本結(jié)構(gòu)公式A/（0.5LH0.5L）Ap/G35、現(xiàn)配有2 把電子槍，面向機(jī)器左邊 為 EB1, 右邊 為 EB2.36、正常新晶振的頻率為6 MHz 左右 .37、一般t#況下，真空達(dá)到7.0 Pa以上，高閥才會(huì)自動(dòng)開(kāi)啟,5E-3 Pa時(shí)，可以預(yù)熔膜料.38、開(kāi)機(jī)時(shí),擴(kuò)散泵中的油溫需加熱到25

7、0左右,擴(kuò)散泵才能抽真空39、氧氣瓶中氧氣的壓力須大于3 KG.40、若一個(gè)膜系40層,每個(gè)光控片控制2層膜 ,再備 2片余量,總共需要放22 片光控片 .41、鍍膜機(jī)開(kāi)機(jī)前必須檢查冷卻水 , 壓縮空氣 , 電 是否正常,是否穩(wěn)定供應(yīng).42、晶振冷卻水的進(jìn)水溫度要求是：18 25 43、寫(xiě)出下列膜料分子式：二氧化硅SiO2 氟化鎂 MgF2 二氧化鈦 TiO2 氧化鋁 AL2O344、寫(xiě)出下列膜料分子式的名稱：Ta2O5 五氧化二鉭Nb2O5 五氧化二釹SiO 一氧化硅MgO 氧化鎂45、韓一鍍膜機(jī)有2 個(gè)晶振頭，外邊為 1 號(hào) ，里 邊為 2 號(hào)。46、在點(diǎn)檢機(jī)械泵、羅茨泵部件，必須查看油位

8、 是否滿足標(biāo)準(zhǔn)要求47、打開(kāi)鍍膜機(jī)時(shí)，必須給擴(kuò)散泵預(yù)加熱60 分鐘后才能用擴(kuò)散泵抽真空48、清冼電子槍、規(guī)管或離子源等部件，必須戴手套 進(jìn)行操作49、利用光控控制鍍膜機(jī)，一般在每爐擺放監(jiān)控片數(shù)量必須多于程序中設(shè)定數(shù)量2 片才可以關(guān)門(mén)。50、在取放昭和機(jī)器光控片時(shí)，每個(gè)光控套筒里擺放1 片干凈、無(wú)傷痕監(jiān)控片。51、鍍膜人員在機(jī)器罩子上取放鏡片時(shí)，一定要戴口罩 。52、晶振片和鍍膜材料應(yīng)放在干燥器 中的目的是： 防止在空氣中受潮 。53、有2塊修正板的鍍膜機(jī)，面向機(jī)器左邊 為 MASK1, 右邊 為 MASK2。54、寫(xiě)出下列中、英名稱：晶振crystal Coating 鍍膜 真空 vacuum

9、 Optical 光學(xué)55、開(kāi)鍍膜機(jī)之前，先需檢查壓縮空氣壓力在_5-8公斤56、開(kāi)啟穩(wěn)壓電源，穩(wěn)壓電壓值應(yīng)為_(kāi)380_V 左右。57、開(kāi)鍍膜機(jī)之前，檢查水壓3-5 公斤 .58、光控控制的鍍膜機(jī)蒸鍍過(guò)程中光控曲線方向?yàn)椋悍瓷涫娇刂频母?折射率材料蒸鍍方向向上；59、機(jī)器大清洗后應(yīng)進(jìn)行抽真空 和 加熱 處理，才能正常生產(chǎn)。60、我們現(xiàn)在的鍍膜方式屬于熱蒸發(fā) 方式。二、選擇題（不定項(xiàng)選擇題）1 .在鍍膜過(guò)程中,石英晶振可以顯示以下哪些因素? （ AD ） A、 蒸發(fā)速率 B 、 蒸發(fā)溫度C、 真空度 D 、膜層厚度2 材料蒸發(fā)時(shí)，充氧的主要目的有哪些？（AB ） A 、補(bǔ)充材料失去的氧原子，使材

10、料氧化更充分，降低膜層吸收B、使每次鍍膜時(shí)，真空室內(nèi)的真空狀態(tài)相接近C、使蒸發(fā)更穩(wěn)定D 、使控制更精確。3.鍍膜機(jī)罩子或放扇形板的轉(zhuǎn)動(dòng)架須高速轉(zhuǎn)動(dòng)的目的是（ ABCD ） A、使同圈的膜層厚 度分布均勻B、使內(nèi)外排膜層厚度分布均勻 C、使同圈溫度分布均勻 D、使內(nèi)外排溫度分 布均勻4、現(xiàn)在我們生產(chǎn)Ir-cut平板濾色片，從反射看平板的顏色是（A ） A、紅色B、綠色C、 藍(lán)色D 、沒(méi)有規(guī)律5、油擴(kuò)散泵上面加冷阱，其作用是（A D ）. A.防止擴(kuò)散油分子回流到真空室B.加快排氧速度.C.防止雜物掉入擴(kuò)散泵.D、提高膜層附著力6、為使蒸發(fā)材料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基板時(shí)基本不和殘余氣體分子發(fā)生碰撞，故

11、真空室內(nèi)真空度要到達(dá)10-3Pa以下,以滿足（B ）條件A、氣體分子平均自由程小于蒸發(fā)距離.B、氣體分 子平均自由程遠(yuǎn)大于蒸發(fā)距離 C、氣體分子平均自由程等于蒸發(fā)距離。D、氣體分子平均自 由程的平方大于蒸發(fā)距離。7、對(duì)鍍膜材料進(jìn)行預(yù)熔的目的是（A C ） A、去除材料內(nèi)部的雜質(zhì)B、改變材料的表面形狀C、減少材料的放氣 D、提高材料的溫度8、真空鍍膜時(shí)真空度范圍應(yīng)在（C ） A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空9、電子槍“FIL”燈變紅，故障原因是（C） A、電子槍高壓線路故障 B、真空室底下門(mén)沒(méi) 有關(guān)好C、電子槍燈絲有問(wèn)題 D、電子槍電流回路故障。1R提高膜層聚集密度工藝有（AD ） A

12、、提高離子源功率 B、降低溫度C、降低真空度D 、提高溫度11、黃色互補(bǔ)色是（B ） A、綠色B、藍(lán)色C、紅色D、紫紅色12、增強(qiáng)膜層和鏡片附著強(qiáng)度，以下那些因素有關(guān)（ ABCD ） A、鏡片表面清潔度B、鏡 片表面溫度C、真空室內(nèi)清潔度 D、膜層材料1&鍍650± 10 IR-CUT濾色片，請(qǐng)問(wèn)鍍出在哪個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)合格（ B ） A、640660nm R640655nm C、 630-660nm D、 635-660nm14、在可見(jiàn)光光譜中，綠色波長(zhǎng)范圍是（D ） A、 600-570 B、 500-450 C、 630-600 D、 570-5001S SID1100的離

13、子源中和器正常工作時(shí)，需要下列哪些氣體？（ AC ）冷卻時(shí)需要什么氣體？（C ） A、氧氣（O2） B、氮?dú)猓∟2） C、氮?dú)猓ˋr） D、氮?dú)猓℉e）16、鍍膜鏡片表面產(chǎn)生雜質(zhì)，以下哪些是可能原因？（ABCD ） A 、材料本身不純，有雜質(zhì)B、預(yù)熔時(shí)沒(méi)熔透，鍍膜時(shí)有飛濺 C、光斑打到邊緣或外邊，將其它物質(zhì)鍍到鏡片上D、坩堝蓋板太臟，預(yù)熔時(shí)有膜料殘?jiān)暨M(jìn)坩堝17、鍍膜機(jī)抽速慢，以下哪些可能會(huì)引起？（ABCD ） A 、各類泵油使用時(shí)間太長(zhǎng)，已變質(zhì)B、POLYCOLD有問(wèn)題C、真空室的清潔不到位 D、機(jī)器有漏氣1&真空室內(nèi)部清掃不干凈，可能會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果？ （ ABCD ） A、機(jī)器

14、抽速慢B、 零件表面灰塵C、機(jī)器效率降低D、分光特性不重復(fù)19下列哪些因素影響內(nèi)外排的均勻性 ？（ ABD ） A、電子槍光斑的位置 B、電子槍光斑的形 狀、大小C、真空度不穩(wěn)定 D、修正板的形狀和上升高度.2R正常，卜#況下，真空室內(nèi)部清洗干凈后，機(jī)器的抽氣速度將（B ） A、變慢B、變快C、不變 D 、無(wú)法判斷。21、電子槍燈絲變形，可能有以下哪些結(jié)果？（ ABCD ） A 、電子槍光斑變形，位置打偏B、內(nèi)外排分布不均勻 C、分光特性不良D、產(chǎn)生雜質(zhì)23、在相同光斑大小和蒸發(fā)速率的情況下，AL2O3 電子槍功率（ A ） SiO2 電子槍功率A、大于B、小于C、等于D、不知道24、下列屬于

15、鍍膜機(jī)粗抽閥門(mén)符號(hào)是（C ） A、 LV B、 SLV C、 RV D、 SRV25、昭和機(jī)器利用光控監(jiān)控鍍膜，在新的一片光控片上鍍（AD ）材料光控曲線向下走動(dòng)（未鍍到極值點(diǎn)之前） A、 TiO2 B、 SiO2 C、 MgF2 D 、 Ta2O526 、 1 Torr= （ BC ） A 、 1Pa B、 133Pa C、 1.33Mbar D、 1Mbar27、新科隆850離子源有（ B ）片柵極片A、 1 B、 2 C、 3 D、 428、如果你鍍出來(lái)一罩鏡片有的排鏡片合格，有的排不合格，與下列（ABC ）因素有關(guān)A 、光斑不在中心位置 B、修正板變形 C、電子槍檔板松掉 D、蒸發(fā)速率

16、不穩(wěn)29在鍍IR-CUT時(shí)，鍍出鏡片表面發(fā)黑，其原因是（ D ） A、鍍膜材料受到污染 B、內(nèi) 外排分布不均勻 C、溫度沒(méi)有加D、沒(méi)有充氧30、下列那個(gè)符號(hào)代表高閥（C ）A、 FV B 、 MBPC、 MVD 、 DP31、下列那個(gè)符號(hào)代表光控（A ）A、 OPM B、 EB C、 MBP D 、PFC32、關(guān)門(mén)抽真空，一般當(dāng)真空度抽到（B ）時(shí)開(kāi)始自動(dòng)預(yù)熔膜料A、 1.5E-3Pa B、5.0E-3Pa C、 2.0E-3Pa D、 5.0E-5Pa3&目前控制膜厚種類有（AC ） A、光學(xué)膜厚儀控制B、電子槍控制C、晶振膜厚儀控制 D 、電腦控制34、 MgF2 材料，我們可以采

17、用是哪種蒸發(fā)方式： （ A ） A、 電子槍蒸發(fā)B、 鉬舟蒸發(fā)（阻蒸法）C、 都不是 D 、離子輔助蒸發(fā)3s正?？缮敌拚宓腻兡C(jī)，若 EB2正在鍍膜，EB1,EB2上方的修正板，處于何種狀態(tài)？（ BC ） A、 EB1 上方的修正板升起B(yǎng)、 EB2 上方的修正板升起C、 EB1 上方的修正板下降D 、 EB2 上方的修正板下降34、韓一機(jī)從開(kāi)始抽真空計(jì)時(shí),到高閥開(kāi)啟,正常情況下需要多少分鐘？（ B ） A、 1 分鐘 B 、 5分鐘C、 10分鐘 D 、 30分鐘3S鍍膜機(jī)在鍍膜過(guò)程中，需要操作員工關(guān)注以下哪些情況?（ ABCD ） A、蒸發(fā)速率穩(wěn)定情況 B、APC充氧情況C、電子槍光斑位

18、置及大小情況D、光控曲線的走向及形狀.36、為減少鏡片人為污染，員工在取鏡片時(shí)，應(yīng)采取以下哪些保護(hù)措施？（BC ） A 、不開(kāi)吸塵器B、 戴棉手套 C、 戴口罩 D 、戴手指套37、手動(dòng)預(yù)熔材料時(shí)，應(yīng)注意下列哪些事項(xiàng)？（ ABCD ） A 、真空室內(nèi)達(dá)到一定的真空度， 開(kāi)始加電流預(yù)熔材料B 、 光斑不能打到坩堝邊上， 更不能打到坩堝外邊C、 預(yù)熔時(shí)的電流一定要高于蒸發(fā)時(shí)的電流D 、不同材料不同的預(yù)熔電流38、 下列哪些部件在機(jī)器運(yùn)行時(shí)需要冷卻水？ （ BCD ） A、 電子槍B、 擴(kuò)散泵 C、 坩堝盤(pán) D 、晶振頭39、有些鍍膜夾具的擺放有上下之分,如棱鏡、平板夾具，如果上下顛倒擺放,鏡片會(huì)因

19、于什么原因而報(bào)廢：（D ） A、破邊B、膜不潔C、劃傷D、通光40、 鍍膜機(jī)在自動(dòng)充氣 （待開(kāi)門(mén)） 狀態(tài)下， 下列哪些情況是正確的？ （ ABC ） A 、 LV 開(kāi) B、MTR 開(kāi) C、FV 開(kāi) D、MV 開(kāi)。41、 在清洗和安裝電子槍高壓電極的引線時(shí)，為了防止扭壞電極， 我們?nèi)绾芜x擇工具？ （ B ）A、鴨嘴鉗B、兩只扳手C、尖嘴鉗D、螺絲刀42、對(duì)于AR 膜而言，下列哪個(gè)波段反射率偏高時(shí)，鏡片的反射光呈現(xiàn)紅色？（ D ） A 、400420nm B、 500530nm C、 580620nm D、 630760nm43、 每臺(tái)機(jī)器安裝修正板的目的是（ C ） A、 調(diào)整內(nèi)外排溫度分布B、

20、 調(diào)整機(jī)器內(nèi)的真空度分布C、調(diào)整內(nèi)外排膜厚分布 D、調(diào)整同圈厚度分布.44、如果加熱板下方的溫度探頭移位,比正常時(shí)要低許多,結(jié)果鏡片溫度將會(huì)：（ B ） A 、比正常時(shí)低B、比正常時(shí)高 C、基本不變 D、劃破鏡片45、在蒸鍍膜料時(shí)，電子槍電流有，但加不高的原因是（AD ） A 、裝電子槍燈絲螺絲松了B、電子槍燈絲壽命到期 C、燈絲斷了 D、高壓引線松動(dòng)4&在正常情況下，目前規(guī)定韓一機(jī)器使用新品振最多只能鍍（ B ）爐A、一 B、二C、三 D 、不確定47、鍍膜機(jī)中EB代表的含義（C ） A、電腦B、擴(kuò)散泵C、電子槍D、光斑48、下列（B ）符號(hào)代表Y 方向的光斑大小A、 YP B、 Y

21、S C、 XP D 、 EB49、下列（A ）符號(hào)代表X 方向的光斑位置A、 XPB、 XS C、 YP D 、 EB5R機(jī)器按規(guī)定（D ）換護(hù)板。A、每周B、每天C、每爐D、每班51、在正常情況下，我們鍍一爐 650± 10nm IR-CUT需要多長(zhǎng)時(shí)間（A ） A、6小時(shí)B、2小時(shí) C、 4小時(shí) D、 8小時(shí)52、在正常情況下，我們鍍一爐普通增透需要多長(zhǎng)時(shí)間（B ） A、 6 小時(shí) B、 2 小時(shí)C、4 小時(shí) D 、半小時(shí)53、下列（B ）符號(hào)代表X 方向的光斑大小A、 XP B、 XS C、 YP D 、 EB54、下列（C ）符號(hào)代表Y 方向的光斑位置A、 XP B、 XS

22、C、 YP D 、 EB55、以下材料折射率最高的是（C ） A、 SIO2 B、 AL2O3C、 TIO2 D 、 MGF2D、 MGF255、以下材料折射率最低的是（D ） A 、 SIO2B、 AL2O3 C、 TIO25&晶振不好會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ AC ） A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D 、膜層牢固度不好57、充氧不穩(wěn)會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ A ） A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好C、表面不好D 、膜層牢固度不好5&光控曲線不好會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ A ） A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好 D 、膜層牢固度不好59溫度不對(duì)會(huì)

23、導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ ABD ） A、整罩分光特性超差B、均勻性不好 C、表面不好D 、膜層牢固度不好6R真空度不對(duì)會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ ABD ） A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D 、膜層牢固度不好三、判斷題1、本部目前所使用的鍍膜機(jī)有單層鍍膜機(jī)、多層鍍膜機(jī)和磁控濺射鍍膜機(jī)（ X ）2、在選擇膜系，按照自己以前鍍過(guò)的膜系經(jīng)驗(yàn)來(lái)選擇膜系的（ X ）3、多層鍍膜機(jī)每次可以蒸發(fā)二種以上的鍍膜料（ V ）4、每臺(tái)多層鍍膜機(jī)都配有二把電子槍（ X ）5、開(kāi)機(jī)前先檢氣壓要求為2公斤以下（X ）6、開(kāi)機(jī)前先檢水壓要求為10公斤以上（X ）7、開(kāi)啟穩(wěn)壓電源，穩(wěn)壓指示應(yīng)為 220V（ X ）

24、8、自動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)不需要考慮真空度就可以直接關(guān)機(jī)（ X ）9、自動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)只要把總電源關(guān)掉就可以了（ X ）1R關(guān)擴(kuò)散泵后等待30分鐘就可以關(guān)掉設(shè)備總電源（ X ）11、手動(dòng)開(kāi)機(jī)時(shí)，打開(kāi)擴(kuò)散泵（DP）加熱開(kāi)關(guān)前先需把MV閥打開(kāi)，否則會(huì)影響擴(kuò)散泵抽速（X ）12、當(dāng)擴(kuò)散泵指示燈長(zhǎng)亮?xí)r說(shuō)明擴(kuò)散泵還在加熱完成，還不能正常工作（ X ）13、手動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)，關(guān)閉擴(kuò)散泵加熱，等冷卻50 分鐘后，需先關(guān)閉 MV 閥、再關(guān)羅茨泵和機(jī)械泵（X ）14k鏡片上架時(shí)需先將待鍍鏡片確認(rèn)面別，并對(duì)照作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)書(shū)確定膜系（ V ）1S鏡片上架后，確認(rèn)鏡片不會(huì)掉下來(lái)，關(guān)門(mén)按“STOP”機(jī)器自動(dòng)運(yùn)行，并選擇好膜系（X ）16、預(yù)熔時(shí)先

25、把電子槍手/ 自動(dòng)開(kāi)關(guān)拔到 REMOTE ，把 POCKET 按鈕拔到 MAN ，用上下鍵選擇好要預(yù)熔的培竭號(hào)按SET （轉(zhuǎn)動(dòng)到位）（X）17、按 ACC ON 、 FIL ON ，旋 EMISSION 一點(diǎn)（看到光班），旋控制柜面板上的POSITION/SCAN X與Y位置把位置定到邊緣（X ）1&預(yù)熔H4時(shí)，電子槍電流只加到100 150 MA就可以預(yù)熔好材料（X ）19在鏡片鍍膜前先需核對(duì)所鍍鏡片與流轉(zhuǎn)單是否相符（ V ）2R設(shè)備點(diǎn)檢每周一次，發(fā)現(xiàn)異常及時(shí)修理（ X ）21、機(jī)器按規(guī)定每月一次大洗，每天定期換護(hù)板（ X ）22、電子槍擋板更換周期為每四罩一次（X ）2&按

26、點(diǎn)檢表內(nèi)容和操作過(guò)程實(shí)際情況認(rèn)真填寫(xiě)（操作一步、填寫(xiě)一步）（ V ）24記錄者可以只寫(xiě)姓氏，不寫(xiě)工號(hào)（ X ）25若點(diǎn)檢發(fā)現(xiàn)有與要求不相符的情況出現(xiàn)時(shí)需及時(shí)向線長(zhǎng)匯報(bào)，并認(rèn)真記錄在設(shè)備點(diǎn)檢表內(nèi)（，）2&膜料、輔料領(lǐng)用時(shí)先填寫(xiě)領(lǐng)用單，由車(chē)間授權(quán)人員簽字后向成品倉(cāng)庫(kù)領(lǐng)用（ V ）27、在安裝新品振時(shí)，發(fā)現(xiàn)晶振壽命不好，把那片新品振取下扔掉，重新?lián)Q上新品振（X ）2&添加SIO2膜料藥勺可以拿來(lái)添加氟化鎂膜料（ X ）29在添加好膜料后，各種膜料瓶子放到機(jī)器旁邊就可以了（ X ）3R鍍膜員工可以保管不合格鏡片（ X ）31、報(bào)廢片與合格片需在同一個(gè)盒子內(nèi)擺放，防止混淆（ X ）32、

27、不合格鏡片非專職人員可以隨便拿取（X ）3&韓一機(jī)器、昭和機(jī)器和新科隆機(jī)器中，顯示真空度單位都是一樣的（ X ）34韓一機(jī)器可以利用光控進(jìn)行膜厚控制（ X ）3s新科隆機(jī)器既可以利用光控控制也可以利用晶振控制（ V ）3&昭和機(jī)器可以利用舊的晶振裝到機(jī)器上進(jìn)行鍍膜控制（ V ）37、昭和機(jī)器和新科隆機(jī)器，在鍍 TIO2時(shí)光控走動(dòng)方向一樣（X ）3&昭和機(jī)器和新科隆機(jī)器電子槍都是 270度（V ）39韓一機(jī)器和新科隆機(jī)器的電子槍都是 270度（X ）4R在裝韓一電子槍時(shí)，裝好電子槍燈絲擰緊電子槍燈冒，但擰緊之后又要倒轉(zhuǎn)1/4圈（，）41、符號(hào)表示分光膜（X ）42、目前本

28、部鍍膜機(jī)配制的膜厚控制儀有 MDC360、IC-5和XTC-2 （ X ）43、需連續(xù)預(yù)熔下個(gè)坩堝時(shí)，不需要把EMISSION （電流）旋小，只把下一個(gè)坩鍋轉(zhuǎn)到位就開(kāi)始預(yù)熔（X ）44、韓一機(jī)器在鍍膜時(shí)，修正板全部是自動(dòng)升降的（X ）4s新科隆和昭和機(jī)器在鍍膜時(shí)，修正板全部是自動(dòng)升降的（，）4&昭和鍍?cè)翸機(jī)在鍍IR-CUT時(shí)，真空度抽到5.0E-5Torr,開(kāi)始自動(dòng)預(yù)熔SIO2膜料（X ）47、電子槍光斑X方位置偏移不在中心時(shí)，我們只需調(diào)節(jié) XP （，）4&在相同光斑條件下，電子槍鍍 AL2O3電流跟MGF2電流大小差不多（X ）49鍍膜機(jī)鍍膜結(jié)束，不需要冷卻可直接充氣（ X

29、）5R每次更換晶振，除了我們換上新的晶振，還必須把晶振頭也清洗干凈（ V ）三、簡(jiǎn)答題。1簡(jiǎn)述在鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生雜質(zhì)的原因和對(duì)策？答： 原因 對(duì)策1.電子槍周?chē)鷽](méi)有打掃干凈用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件2 坩鍋沒(méi)有清冼干凈坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼干凈3 鍍膜時(shí)電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時(shí)必須把電子槍光斑打到中間而不能打偏 4 預(yù)熔材料不透徹把膜料充分地預(yù)熔透徹 5 預(yù)熔膜料電流加得太快加電流要緩慢，不要加的太快6.電子槍檔板不干凈每罩要更換電子槍檔板，以及電子槍檔板要清冼干凈7.膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法8.膜料本身不純更換其它品種膜料2從操作角度來(lái)看，如何操作和保養(yǎng)

30、才能讓一臺(tái)鍍膜機(jī)的膜系穩(wěn)定？答：本題是員工自由發(fā)揮題目，沒(méi)有明確答案，可以從以下三個(gè)方面考慮：1、如何按照作業(yè)指導(dǎo)書(shū)進(jìn)行操作？2、如何維護(hù)設(shè)備日常保養(yǎng)？3、在鍍膜時(shí)出現(xiàn)問(wèn)題時(shí)，怎樣去解決這些問(wèn)題？3簡(jiǎn)述一下鍍金屬膜注意事項(xiàng)？答：高的真空度 、低基板溫度、 快蒸4、在使用擴(kuò)散泵應(yīng)注意那些事項(xiàng)？答 1、冷卻水不足，必須關(guān)閉擴(kuò)散泵，否則輕則會(huì)造成返油，重則會(huì)使擴(kuò)散泵過(guò)熱造成擴(kuò)散泵油燒焦。（機(jī)器若有自動(dòng)保護(hù)裝置，會(huì)自動(dòng)停止擴(kuò)散泵加熱，并報(bào)警） 2、擴(kuò)散泵必須在低真空閥關(guān)閉，預(yù)抽閥開(kāi)啟，且系統(tǒng)真空高于真空室真空時(shí)才能打開(kāi)，否則會(huì)造成真空室返油5、 光控控制的機(jī)器在鍍TIO2 ， 光控程序設(shè)定為 STAR

31、T 90 PERK 1 STOP 10而現(xiàn)在的光控曲,線鍍到 80 時(shí)突然報(bào)警，而必須退出程序重新加鍍，請(qǐng)問(wèn)如何設(shè)置程序進(jìn)行加鍍？答：首先把START值從90改到80,然后重新加鍍這一層，讀出極值點(diǎn)數(shù)值，這時(shí)過(guò)振量應(yīng)該這樣計(jì)算 STOP®=（結(jié)束值-PERK值）/ （90-PERK值）*1006、為什么要在高真空下鍍膜？答：1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對(duì)高熔點(diǎn)的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。2、真空狀態(tài)下， 真空室中空氣極少， 膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即

32、分子自由程長(zhǎng)。膜料容易沉積在基片上。3、由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化學(xué)活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化，從而保證膜層的膜料純度。7、晶振水堵塞后你怎么進(jìn)行疏通?答：把晶振冷卻水管進(jìn)口、出口從連接處斷開(kāi)，并把閥門(mén)關(guān)上，用壓縮空氣氣槍從進(jìn)口處吹 入壓縮空氣，看出口處是否有異物流出？8、鍍膜機(jī)在自動(dòng)鍍膜時(shí)發(fā)生報(bào)警，而作為一名操作員工應(yīng)如何處理報(bào)警？答：首先按報(bào)警暫停按紐，查看報(bào)警內(nèi)容，看自已是否知道？能否自已解決？如不能自已解決，查看作業(yè)指導(dǎo)書(shū)是否有，如沒(méi)有向線長(zhǎng)匯報(bào)，由線長(zhǎng)再向技術(shù)人員詢問(wèn)如何解決，直到報(bào)警內(nèi)容消除后才能按繼續(xù)鍍膜的鍵。9、利用光控控制，上一

33、罩鍍出IR-CUT,測(cè)試曲線波長(zhǎng)最長(zhǎng)672nm、最短是666nm而現(xiàn)在要鍍650± 10 IR-CUT濾色片，請(qǐng)問(wèn)如何更改參數(shù)？答：=所有光控控制波長(zhǎng)X 650/672 10.根據(jù)你的工作經(jīng)驗(yàn)，從外表看，如何區(qū)分AL2O3 和 MGF2 材料？答：從形狀來(lái)看：AL2O3顆料比較有梭角，MGF2膜料更碎；從顏色來(lái)看：AL2O3的顏色要暗一些， MGF2 的顏色要亮一些。11 作為一名交班者， 你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)該讓接班者清楚哪些事情,同時(shí)作為一個(gè)接班者你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)該從前一班中清楚哪些事情？答：本題是員工發(fā)揮題，可以從以下幾個(gè)方面答題 1、本班在上班時(shí)，生產(chǎn)那些產(chǎn)品，以及用的什么膜系來(lái)鍍膜的？2