標準解讀
《GB/T 12128-1989 用于校準表面污染監(jiān)測儀的參考源 β發(fā)射體和α發(fā)射體》這項國家標準主要規(guī)定了使用β發(fā)射體和α發(fā)射體作為參考源來校準表面污染監(jiān)測儀的技術(shù)要求、試驗方法及檢驗規(guī)則,以確保監(jiān)測儀測量結(jié)果的準確性和可靠性。以下是該標準的主要內(nèi)容概覽:
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范圍:標準明確了其適用范圍,即規(guī)定了β發(fā)射體和α發(fā)射體作為參考源時,用于校準測定β粒子和α粒子表面污染水平的監(jiān)測儀器所應遵循的標準和程序。
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引用標準:列出了實施該標準時需要參考的其他相關(guān)國家標準和文件,這些標準通常涉及放射性物質(zhì)的基本測量原則、安全要求以及輻射防護等方面。
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術(shù)語和定義:對標準中涉及的關(guān)鍵術(shù)語進行了明確界定,如“表面污染”、“參考源”、“β發(fā)射體”、“α發(fā)射體”等,以便統(tǒng)一理解和應用。
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分類與標記:規(guī)定了參考源的分類依據(jù),以及源的標識、包裝和運輸?shù)陌踩螅_保操作人員能夠正確識別并安全處理這些放射性材料。
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技術(shù)要求:
- 物理形態(tài):描述了參考源應具有的物理形態(tài),包括但不限于形狀、尺寸、基材選擇等,以適應不同類型的監(jiān)測儀校準需求。
- 放射性純度:規(guī)定了參考源中放射性核素的純度要求,以減少其他放射性雜質(zhì)對校準結(jié)果的影響。
- 活度與均勻性:詳細說明了參考源的放射性活度及其在源表面上的分布均勻性要求,這是確保校準精度的關(guān)鍵因素。
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試驗方法:提供了驗證參考源是否符合技術(shù)要求的具體測試步驟和方法,包括活度測定、均勻性檢驗、穩(wěn)定性評估等。
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檢驗規(guī)則:制定了參考源的驗收準則,包括出廠檢驗和型式檢驗的具體要求,確保每批產(chǎn)品的質(zhì)量符合標準。
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標志、包裝、運輸和儲存:規(guī)定了參考源的外包裝上應標注的信息、包裝材料的選擇、運輸過程中的安全措施以及儲存條件,以保證從生產(chǎn)到使用的整個過程中放射性安全。
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安全與防護:強調(diào)了在處理和使用參考源過程中必須遵守的輻射防護原則和措施,以保護操作人員和環(huán)境免受不必要的輻射傷害。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 1989-12-18 頒布
- 1990-07-01 實施


文檔簡介
UDC681.2:621.039F70中華人民共和國國家機標準GB12128-89用于校準表面污染監(jiān)測儀的參考源B發(fā)射體和“發(fā)射體Referencesourcesforthecalibrationofsurfacecontaminationmonitors-Beta-emittersandalpha-emitters1989-12-18發(fā)布1990-07-01實施家技術(shù)監(jiān)督局國發(fā)布
中華人民共和國國家標準用于校準表面污染監(jiān)測儀的參考源GB12128-89B發(fā)射體和發(fā)射體Referencesourcesforthecalibratonofsurfacecontaminationmonitors-Beta-emittersandalpha-emitters本標準參照采用國際標準ISO8769《用于校準表面污染監(jiān)測儀的參考源-——B發(fā)射體(B最大能量大于0.15MeV)和α發(fā)射體》。主題內(nèi)客與適用范臣本標準規(guī)定了用于校準放射性表面污染監(jiān)測儀的B和發(fā)射體參考標準平面源(以下簡稱“參考源”)的核素、結(jié)構(gòu)形式、特性及技術(shù)要求。本標準適用于校準表面污染監(jiān)測儀(或測量儀)的B(B最大能量大于0.15MeV)和參考源。2引用標準GB8997“、B表面污染測量儀與監(jiān)測儀的校準GB12164用于校準B劑量(率)儀及確定其能量響應的B參考輻射3術(shù)語3.1活度在給定時刻,處在特定能態(tài)的一定量的某種放射性活度“是dw除以而得的商。式中:aw是在時間間隔內(nèi),核素在特定能態(tài)上發(fā)生自發(fā)核躍遷數(shù)目的期望值,3.2表面發(fā)射率源的表面發(fā)射率是指單位時間射出源表面(或窗)的具有大于給定能量的一定種類的粒子數(shù)。飛3飽和層厚度由均勾物質(zhì)構(gòu)成的放射源的飽和層厚度是指與指定的粒子輻射在源介質(zhì)中的最大射程相等的介質(zhì)厚度。3.4儀器效率儀器效率是在探測器相對于參考源的特定幾何條件下的凈讀數(shù)(單位時間計數(shù))與源表面發(fā)射率之比。3.5源效率原源效率是源的表面發(fā)射率與單位時間內(nèi)在源(或飽和層)中產(chǎn)生(或釋放)的同種粒子數(shù)之比。3.6自吸收源的自吸收是源材料本身對
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