YS/T 644-2007鉑釕合金薄膜測試方法 X射線光電子能譜法測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量

ICS77.120.99Y5H68中華人民共和國有色金屬行業(yè)標準YS/T644—2007鉑釘合金薄膜測試方法X射線光電子能譜法測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釘含量DeterminationmethodofPt-Rualloyfilm-DeterminationofalloyedPtcontentandalloyedRucontentbyX-rayphotoelectronspectroscopy2007-04-13發(fā)布2007-10-01實施中華人民共和國國家發(fā)展和改革委員會發(fā)布

YS/T644—2007前本標準由全國有色金屬標準化技術委員會提出并歸口本標準由昆明貴金屬研究所負責起草。本標準主要起草人:楊濱、李腸、楊喜昆、管林寒本標淮由全國有色金屬標準化技術委員會負責解釋。本標準首次發(fā)布。

YS/T644-2007鉑釘合金薄膜測試方法X射線光電子能譜法測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釘含量范圍本標準規(guī)定了鉑釘(Pt-Ru)合金薄膜材料中合金態(tài)鉑及合金態(tài)釘含量(質(zhì)量分數(shù)）的測定方法本標準適用于鉑釘合金薄膜材料中合金態(tài)鉑及合金態(tài)釘質(zhì)量分數(shù)的測定,也可適用于各種鉑合金薄膜材料中合金態(tài)鉑質(zhì)量分數(shù)及其他合金態(tài)金屬質(zhì)量分數(shù)的測定。測定范圍：合金態(tài)鉑質(zhì)量分數(shù)不小于3%，合金態(tài)釘質(zhì)量分數(shù)不小于3%。本標準不適用于單層厚度不大于10nm的層狀薄膜方法原理在單色(或準單色)X射線照射下,測量材料表面所發(fā)射的光電子能譜來獲取表面化學成分、分子紀構等方面的信息,這種表面分析技術稱為X射線光電子能譜法（XPS)。XPS測量獲得試樣能譜圖，經(jīng)擬合形成若干譜峰,通過對各譜峰峰面積以及相對靈敏度因子計算得到試樣中合金態(tài)金屬的原子百分數(shù)和質(zhì)量分數(shù)3儀器和設備3.1X射線光電子能譜儀，凡能達到下列指標者均可使用真空度：10-6Pa～10-Pa。MgK.X射線能址：1253.6V激發(fā)源功率：200W~400W。荷電校正：通常采用在試樣上蒸鍍金作為參照物來定標.即選定Au為84.0eV:或以污染碳Cls284.8eV定標。分牌率：0.8eV。采樣深度：<10nm。3.2切割工具：醫(yī)用剪刀、玻璃刀。3.3醫(yī)用攝子。試樣的制備4采用切割工具將樣品切割成尺寸不大于10mm×10mm的試樣,制樣過程中應戴醫(yī)用手套)5測量步驃5.1用醫(yī)用攝子夾住試樣放入光電子能譜進樣室.抽真空至10-Pa.保持5min.將進樣室中試樣導入分析室中的樣品臺座上。待真空度達到10-"Pa后，選取Mg靶.開啟X-ray光槍做XPS圖譜分析.5.2對試樣的XPS測試圖譜進行曲線擬合分峰，得到各譜峰，