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流行飾品材料及工藝教育部職業(yè)教育寶玉石鑒定與加工專業(yè)教學(xué)資源庫GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary氮化鈦裝飾鍍膜建設(shè)者姓名：尚穎麗物理氣相沉積工藝氮化鈦裝飾鍍膜-磁控濺射技術(shù)沉積氮化鈦工藝過程磁控濺射技術(shù)沉積氮化鈦工藝過程：(1)安裝工件。將工件安裝在工件掛具上后，關(guān)上鍍膜室。(2)抽真空。開啟真空泵，真空度達(dá)到6Pa后，開擴(kuò)散高泵，真空度抽至6×10-3Pa。(3)烘烤加熱。開啟烘烤加熱電源，對工件加熱，達(dá)到預(yù)定溫度。(4)轟擊凈化。向鍍膜室充入氬氣，真空度保持1~3Pa,轟擊電壓1000~3000V,工件產(chǎn)生輝光放電，氬離子轟擊凈化工件，轟擊時間10~20分鐘。(5)沉積氮化鈦。首先沉積鈦底層，將工件偏壓降低至500V左右，通入氬氣，真空度調(diào)至0.3~0.5Pa。開啟磁控濺射靶電。靶面產(chǎn)生輝光放電，高密度的離子流從靶面濺射出鈦原子。接著沉積氮化鈦涂層，需通入氮?dú)?，真空度?.5~0.7Pa范圍。由于平衡磁控濺射的金屬離化率只有5%~10%，金屬的活性比較低，獲得氮化鈦等化合物涂層控的工藝范圍(配氮量)比較窄。與輝光放電相比，欲獲得優(yōu)質(zhì)氮化鈦涂層時，必須嚴(yán)格控制鈦的濺射量以及氬-氮比。否則沉積速率很低，色澤不好控制。

(6)取出工件。當(dāng)膜層厚度

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