第三章-真空蒸鍍

1、加熱器高閥AB擋板蒸發(fā)源支架加熱源襯底真空室加熱器擴散泵高閥AB擋板蒸發(fā)源支架加熱源襯底真空室往機械泵擴散泵機械泵磁力充氣閥低真空磁力閥AC高真空閥機械泵低真空磁力閥BAnswer 2Answer 12) (1rrnr2) (rrPkTr工 件2) (rrPkTrLrrPkTr10) (22) (10rrLkTPr22PkT/0 xxeNN/011xxeNNf lgTBAp）柱（蒸汽壓，單位：微米汞）絕對溫度（mHg K TpABABAB10.998.0710310.717.8310312.722.1310410.725.4910310.708.7610312.502.3210410.284.

2、4810311.636.5410312.333.031049.913.8010311.565.7210312.522.8410411.961.69810413.072.96210411.71 1.80310411.851.42710411.791.59410410.88 1.48710411.891.75810411.602.08510410.779.7110312.011.64710411.411.38410411.158.6310311.647.6510311.231.24810411.189.5310311.228.9410315.73410412.942.010411.643.0851

3、0412.702.11110413.593.710412.404.06810412.752.09610413.07 3.12310411.592.33110413.503.3810412.53 2.72810412.141.37410412.942.77210413.07 2.57210412.441.99710411.781.97110413.04 4.021104 2 mkTpJ 2 mkTpJvcm分子質(zhì)量；T絕對溫度；k玻耳茲曼常數(shù)冷凝系數(shù) ( 1 ）；pv飽和蒸汽壓； 2)(mkTppAdtdNJhvee式中，dN為蒸發(fā)分子（原子）數(shù)；A為蒸發(fā)表面積；e為蒸發(fā)系數(shù) ；t為時間（秒）

4、；pv和ph分別為飽和蒸汽壓和液相靜壓（Pa）。 )scm( 21 -2-個mkTpJvm 2vmpkTmmJG )3020(TdTGdGGO )scm( 2 1 -2-個由mkTpJvm、反射鏡反射鏡GOMoreMoreMoreMoreMoreMoreMoreMoreGOv鍍膜之前應(yīng)對基材做預(yù)處理，以獲得薄膜與基材較好的粘結(jié)性能。銅板鍍膜之前應(yīng)對基材做預(yù)處理，以獲得薄膜與基材較好的粘結(jié)性能。銅板和不銹鋼板先用細(xì)砂紙和不銹鋼板先用細(xì)砂紙(600#) 打磨平整打磨平整,然后依次用丙酮、無水乙醇、去然后依次用丙酮、無水乙醇、去離子水清洗；玻璃板直接用丙酮、無水乙醇、去離子水清洗。本文使用離子水清洗

5、；玻璃板直接用丙酮、無水乙醇、去離子水清洗。本文使用蘭州交通大學(xué)光電技術(shù)與智能控制教育部重點實驗室的大型真空蒸發(fā)鍍蘭州交通大學(xué)光電技術(shù)與智能控制教育部重點實驗室的大型真空蒸發(fā)鍍膜機制備膜機制備TiO2 薄膜。其鍍膜工藝流程為：商品薄膜。其鍍膜工藝流程為：商品TiO2涂敷在蒸發(fā)源上涂敷在蒸發(fā)源上抽抽真空真空離子清洗離子清洗延時延時60s鍍膜。離子清洗是通過鍍膜。離子清洗是通過N2氣等離子體轟擊氣等離子體轟擊鍍膜基材，去除污染物，保證表面清潔，獲得最佳的粘結(jié)效果。本試驗鍍膜基材，去除污染物，保證表面清潔，獲得最佳的粘結(jié)效果。本試驗中離子清洗條件是：電壓中離子清洗條件是：電壓14001500V，電流，電流1.952.04A，壓力，壓力3.010-23.210- 2 Pa；鍍膜機內(nèi)預(yù)鍍材料的轉(zhuǎn)速；鍍膜機內(nèi)預(yù)鍍材料的轉(zhuǎn)速4r/min，運行時間，運行時間120s。鍍膜時：電壓。鍍膜時