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1、第五章 X射線衍射分析原理衍射的本質(zhì)是晶體中各原子相干散射波疊加(合成)的結(jié)果。 衍射波的兩個(gè)基本特征衍射線(束)在空間分布的方位(衍射方向)和強(qiáng)度,與晶體內(nèi)原子分布規(guī)律(晶體結(jié)構(gòu))密切相關(guān)。 第一節(jié) 衍射方向 1912年勞埃(M. Van. Laue)用X射線照射五水硫酸銅(CuSO45H2O)獲得世界上第一張X射線衍射照片,并由光的干涉條件出發(fā)導(dǎo)出描述衍射線空間方位與晶體結(jié)構(gòu)關(guān)系的公式(稱勞埃方程)。隨后,布拉格父子(WHBragg與WLBragg)類比可見(jiàn)光鏡面反射安排實(shí)驗(yàn),用X射線照射巖鹽(NaCl),并依據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果導(dǎo)出布拉格方程。 一、布拉格方程 1.布拉格實(shí)驗(yàn) 圖5-1 布拉格實(shí)驗(yàn)
2、裝置設(shè)入射線與反射面之夾角為,稱掠射角或布拉格角,則按反射定律,反射線與反射面之夾角也應(yīng)為。布拉格實(shí)驗(yàn)得到了“選擇反射”的結(jié)果,即當(dāng)X射線以某些角度入射時(shí),記錄到反射線(以Cu K射線照射NaCl表面,當(dāng)=15和=32時(shí)記錄到反射線);其它角度入射,則無(wú)反射。 設(shè)一束平行的X射線(波長(zhǎng))以 角照射到晶體中晶面指數(shù)為(hkl)的各原子面上,各原子面產(chǎn)生反射。任選兩相鄰面(A1與A2),反射線光程差=ML+LN=2dsin ;干涉一致加強(qiáng)的條件為=n,即2dsin=n式中:n任意整數(shù),稱反射級(jí)數(shù),d為(hkl)晶面間距,即dhkl。 3.布拉格方程的討論 (1)布拉格方程描述了“選擇反射”的規(guī)律。
3、產(chǎn)生“選擇反射”的方向是各原子面反射線干涉一致加強(qiáng)的方向,即滿足布拉格方程的方向。 (2)布拉格方程表達(dá)了反射線空間方位()與反射晶面面間距(d)及入射線方位()和波長(zhǎng)()的相互關(guān)系。 (3)入射線照射各原子面產(chǎn)生的反射線實(shí)質(zhì)是各原子面產(chǎn)生的反射方向上的相干散射線,而被接收記錄的樣品反射線實(shí)質(zhì)是各原子面反射方向上散射線干涉一致加強(qiáng)的結(jié)果,即衍射線。因此,在材料的衍射分析工作中,“反射”與“衍射”作為同義詞使用。 (6)衍射產(chǎn)生的必要條件 “選擇反射”即反射定律+布拉格方程是衍射產(chǎn)生的必要條件。即當(dāng)滿足此條件時(shí)有可能產(chǎn)生衍射;若不滿足此條件,則不可能產(chǎn)生衍射。 二、衍射矢量方程 由“反射定律+布
4、拉格方程”表達(dá)的衍射必要條件,可用一個(gè)統(tǒng)一的矢量方程式即衍射矢量方程表達(dá)。 設(shè)s0與s分別為入射線與反射線方向單位矢量,s-s0稱為衍射矢量,則反射定律可表達(dá)為:s0及s分居反射面(HKL)法線(N)兩側(cè),且s0、s與N共面,s0及s與(HKL)面夾角相等(均為)。據(jù)此可推知s-s0/N(此可稱為反射定律的數(shù)學(xué)表達(dá)式),如圖所示。 由圖亦可知s-s0=2sin,故布拉格方程可寫(xiě)為s-s0=/d。綜上所述,“反射定律+布拉格方程”可用衍射矢量(s-s0)表示為 s-s0/N 由倒易矢量性質(zhì)可知,(HKL)晶面對(duì)應(yīng)的倒易矢量r*HKL/N且r*HKL=1/dHKL,引入r*HKL,則上式可寫(xiě)為 (
5、s-s0)/=r*HKL(r*HKL=1/dHKL) 此式即稱為衍射矢量方程。若設(shè)R*HKL=r*HKL(為入射線波長(zhǎng),可視為比例系數(shù)),則上式可寫(xiě)為s-s0=R*HKL(R*HKL=/dHKL)此式亦為衍射矢量方程。 入射線單位矢量s0與反射晶面(HKL)倒易矢量R*HKL及該晶面反射線單位矢量s構(gòu)成矢量三角形(稱衍射矢量三角形)。該三角形為等腰三角形(s0=s);s0終點(diǎn)是倒易(點(diǎn)陣)原點(diǎn)(O*),而s終點(diǎn)是R*HKL的終點(diǎn),即(HKL)晶面對(duì)應(yīng)的倒易點(diǎn)。s與s0之夾角為2,稱為衍射角,2表達(dá)了入射線與反射線的方向。晶體中有各種不同方位、不同晶面間距的(HKL)晶面。當(dāng)一束波長(zhǎng)為的X射線以
6、一定方向照射晶體時(shí),哪些晶面可能產(chǎn)生反射?反射方向如何?解決此問(wèn)題的幾何圖解即為厄瓦爾德(Ewald)圖解。 按衍射矢量方程,晶體中每一個(gè)可能產(chǎn)生反射的(HKL)晶面均有各自的衍射矢量三角形。各衍射矢量三角形的關(guān)系如圖所示。 同一晶體各晶面衍射矢量三角形關(guān)系腳標(biāo)1、2、3分別代表晶面指數(shù)H1K1L1、H2K2L2和H3K3L3 厄瓦爾德圖解步驟為:1.作OO*=s0;2.作反射球(以O(shè)為圓心、OO*為半徑作球);3.以O(shè)*為倒易原點(diǎn),作晶體的倒易點(diǎn)陣;4.若倒易點(diǎn)陣與反射球(面)相交,即倒易點(diǎn)落在反射球(面)上(例如圖中之P點(diǎn)),則該倒易點(diǎn)相應(yīng)之(HKL)面滿足衍射矢量方程;反射球心O與倒易點(diǎn)
7、的連接矢量(如OP)即為該(HKL)面之反射線單位矢量s,而s與s0之夾角(2)表達(dá)了該(HKL)面可能產(chǎn)生的反射線方位。 四、勞埃方程 由于晶體中原子呈周期性排列,勞埃設(shè)想晶體為光柵(點(diǎn)陣常數(shù)為光柵常數(shù)),晶體中原子受X射線照射產(chǎn)生球面散射波并在一定方向上相互干涉,形成衍射光束。 1. 一維勞埃方程一維勞埃方程的導(dǎo)出 設(shè)s0及s分別為入射線及任意方向上原子散射線單位矢量,a為點(diǎn)陣基矢,0及分別為s0與a及s與a之夾角,則原子列中任意兩相鄰原子(A與B)散射線間光程差()為 =AM-BN=acos-acos0 散射線干涉一致加強(qiáng)的條件為=H,即 a(cos-cos0)=H 式中:H任意整數(shù)。
8、此式表達(dá)了單一原子列衍射線方向()與入射線波長(zhǎng)()及方向(0)和點(diǎn)陣常數(shù)的相互關(guān)系,稱為一維勞埃方程。 亦可寫(xiě)為 a(s-s0)=H 2. 二維勞埃方程 a(cos-cos0)=Hb(cos-cos0)=K 或a(s-s0)=Hb(s-s0)=K 3. 三維勞埃方程a(cos-cos0)=Hb(cos-cos0)=Kc(cos-cos0)=L 或a(s-s0)=Hb(s-s0)=Kc(s-s0)=L 第二節(jié) X射線衍射強(qiáng)度 X射線衍射強(qiáng)度理論包括運(yùn)動(dòng)學(xué)理論和動(dòng)力學(xué)理論,前者只考慮入射X射線的一次散射,后者考慮入射X射線的多次散射。 X射線衍射強(qiáng)度涉及因素較多,問(wèn)題比較復(fù)雜。一般從基元散射,即一
9、個(gè)電子對(duì)X射線的(相干)散射強(qiáng)度開(kāi)始,逐步進(jìn)行處理。一個(gè)電子的散射強(qiáng)度 原子散射強(qiáng)度 晶胞衍射強(qiáng)度 小晶體散射與衍射積分強(qiáng)度 多晶體衍射積分強(qiáng)度 X射線衍射強(qiáng)度問(wèn)題的處理過(guò)程 系統(tǒng)消光有點(diǎn)陣消光與結(jié)構(gòu)消光兩類。點(diǎn)陣消光取決于晶胞中原子(陣點(diǎn))位置而導(dǎo)致的F2=0的現(xiàn)象。實(shí)際晶體中,位于陣點(diǎn)上的結(jié)構(gòu)基元若非由一個(gè)原子組成,則結(jié)構(gòu)基元內(nèi)各原子散射波間相互干涉也可能產(chǎn)生F2=0的現(xiàn)象,此種在點(diǎn)陣消光的基礎(chǔ)上,因結(jié)構(gòu)基元內(nèi)原子位置不同而進(jìn)一步產(chǎn)生的附加消光現(xiàn)象,稱為結(jié)構(gòu)消光。各種布拉菲點(diǎn)陣的F2值可參見(jiàn)有關(guān)參考書(shū)。 影響衍射強(qiáng)度的其它因素 多重性因子 :晶體中各(HKL)面的等同晶面(組)的數(shù)目稱為各自的多重性因子(PHKL)。以立方系為例,(100)面共有6組等同晶面,故P100=6;(111)面有8組等同晶面,
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