標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 31353-2014 藍(lán)寶石襯底片彎曲度測(cè)試方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，旨在規(guī)定藍(lán)寶石襯底片的彎曲度測(cè)量的具體步驟與要求。該標(biāo)準(zhǔn)適用于直徑在2英寸至8英寸范圍內(nèi)的圓形藍(lán)寶石襯底片以及邊長(zhǎng)不超過(guò)8英寸的方形或矩形藍(lán)寶石襯底片的彎曲度檢測(cè)。

根據(jù)此標(biāo)準(zhǔn)，首先需要準(zhǔn)備符合規(guī)格要求的待測(cè)樣品，并確保其表面清潔無(wú)污染。測(cè)試過(guò)程中使用的是三點(diǎn)支撐法來(lái)測(cè)定襯底片的最大偏離值，即通過(guò)放置于特定距離上的兩個(gè)平行支撐點(diǎn)之間并讓第三個(gè)接觸點(diǎn)輕輕觸碰樣品中間部位的方式來(lái)進(jìn)行。為了保證結(jié)果準(zhǔn)確性，整個(gè)操作應(yīng)在溫度穩(wěn)定且潔凈度較高的環(huán)境中進(jìn)行。

對(duì)于數(shù)據(jù)處理部分，《GB/T 31353-2014》詳細(xì)說(shuō)明了如何計(jì)算彎曲度數(shù)值的方法：先記錄下每個(gè)位置上測(cè)量得到的最大偏移量，然后取這些數(shù)值中的最大值作為最終的彎曲度結(jié)果。此外，還提供了關(guān)于重復(fù)性和再現(xiàn)性指標(biāo)的要求，以確保不同實(shí)驗(yàn)室間能夠獲得一致可靠的測(cè)試結(jié)果。

按照本標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行時(shí)還需注意以下幾點(diǎn)：

  • 所有用于測(cè)量的工具和設(shè)備都必須經(jīng)過(guò)校準(zhǔn)，并保持良好的工作狀態(tài)。
  • 測(cè)試前應(yīng)仔細(xì)檢查樣品是否存在裂紋或其他可能影響測(cè)試結(jié)果的缺陷。
  • 每次更換新的樣品或者調(diào)整支撐點(diǎn)間距后，都需要重新校正儀器設(shè)置。


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....

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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2014-12-31 頒布
  • 2015-09-01 實(shí)施
?正版授權(quán)
GB/T 31353-2014藍(lán)寶石襯底片彎曲度測(cè)試方法_第1頁(yè)
GB/T 31353-2014藍(lán)寶石襯底片彎曲度測(cè)試方法_第2頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

ICS7704099

H21..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T31353—2014

藍(lán)寶石襯底片彎曲度測(cè)試方法

Testmethodsforbowofsapphiresubstrates

2014-12-31發(fā)布2015-09-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T31353—2014

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專(zhuān)利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別這些專(zhuān)利的責(zé)任

。。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)和全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)

(SAC/TC203)

化技術(shù)委員會(huì)材料分會(huì)共同提出并歸口

(SAC/TC203/SC2)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位江蘇協(xié)鑫軟控設(shè)備科技發(fā)展有限公司中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所

:、、

北京合能陽(yáng)光新能源技術(shù)有限公司

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人薛抗美魏明德黃修康杭寅林清香肖宗杰

:、、、、、。

Ⅰ

GB/T31353—2014

藍(lán)寶石襯底片彎曲度測(cè)試方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了藍(lán)寶石切割片研磨片拋光片以下簡(jiǎn)稱(chēng)藍(lán)寶石襯底片彎曲度的測(cè)試方法

、、()。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于直徑厚度為不小于的藍(lán)寶石襯底片彎曲度的測(cè)試

50.8mm~304.8mm,200μm。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第部分按接收質(zhì)量限檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃

GB/T2828.11:(AQL)

硅片彎曲度測(cè)試方法

GB/T6619

半導(dǎo)體材料術(shù)語(yǔ)

GB/T14264

3術(shù)語(yǔ)和定義

界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

GB/T14264。

31

.

彎曲度bow

自由無(wú)夾持晶片中位面的中心點(diǎn)與中位面基準(zhǔn)平面間的偏離

。

32

.

中位面基準(zhǔn)平面mediansurfacereferenceplane

由指定的小于晶片標(biāo)稱(chēng)直徑的直徑圓周上的個(gè)等距離點(diǎn)決定的平面

3。

4方法提要

41接觸式測(cè)試

.

將藍(lán)寶石襯底片放置在基準(zhǔn)環(huán)的個(gè)支點(diǎn)上支點(diǎn)形成一個(gè)基準(zhǔn)平面利用低壓力位移指示器測(cè)

3,3,

試藍(lán)寶石襯底片中心點(diǎn)偏離基準(zhǔn)平面的距離翻轉(zhuǎn)襯底片重復(fù)測(cè)試兩次測(cè)試值之差的一半表示襯底

,,。

片的彎曲度

。

42非接觸式測(cè)試

.

將藍(lán)寶石襯底片放置在基準(zhǔn)環(huán)的個(gè)支點(diǎn)上個(gè)支點(diǎn)形成一個(gè)基準(zhǔn)平面利用非接觸式位移傳感

3,3,

器測(cè)試藍(lán)寶石襯底片中心點(diǎn)偏離基準(zhǔn)平面的距離翻轉(zhuǎn)襯底片重復(fù)測(cè)試兩次測(cè)試值之差的一半表示

,,。

襯底片的彎曲度

。

43白光干涉式測(cè)試

.

激光照射藍(lán)寶石襯底片表面光經(jīng)過(guò)反射相互疊加干涉干涉圖經(jīng)光學(xué)成像系統(tǒng)記錄開(kāi)始高低形

,,,

貌測(cè)試物鏡在軸方向上不斷微小的移動(dòng)在每個(gè)移動(dòng)位置上光學(xué)成像系統(tǒng)進(jìn)行拍照收集

溫馨提示

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