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文檔簡介
模擬電子技術(shù)第一頁,共三十五頁,2022年,8月28日1本章目標(biāo)掌握1.半導(dǎo)體二極管的伏安特性和基本應(yīng)用電路分析;2.半導(dǎo)體三極管的輸入、輸出特性;3.場效應(yīng)管的輸出特性、轉(zhuǎn)移特性;4.放大的基本概念及放大電路主要技術(shù)指標(biāo)的含義;5.放大電路靜態(tài)工作點(diǎn)及動(dòng)態(tài)技術(shù)指標(biāo)的分析方法。理解1.N型半導(dǎo)體和P型半導(dǎo)體以及PN結(jié)的單向?qū)щ娦裕?.半導(dǎo)體三極管放大電路三種基本組態(tài)的電路組成、工作原理和性能特點(diǎn);3.場效應(yīng)管共源、共漏基本放大電路的電路組成、工作原理及性能特點(diǎn);4.二極管應(yīng)用電路(整流、限幅、鉗位)的工作原理。了解1.二極管和三極管的主要性能參數(shù)和測試方法。第二頁,共三十五頁,2022年,8月28日22.1半導(dǎo)體二極管半導(dǎo)體基本知識(shí)
PN結(jié)及其單向?qū)щ娦园雽?dǎo)體二極管的結(jié)構(gòu)及特性二極管的等效電路分析二極管的基本應(yīng)用電路第三頁,共三十五頁,2022年,8月28日32.1.1半導(dǎo)體(Semiconductor)基本知識(shí)半導(dǎo)體—
導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體和絕緣體之間的物質(zhì)。(如鍺、硅、砷化鎵和一些硫化物、氧化物等)本征半導(dǎo)體
—純凈的具有晶體結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體。半導(dǎo)體材料的純度達(dá)到99.9999999%,稱為“九個(gè)9”。物理結(jié)構(gòu)上呈單晶體形態(tài)。半導(dǎo)體材料且具有摻雜和光、熱敏特性。第四頁,共三十五頁,2022年,8月28日4溫度:溫度上升,電阻率下降。鍺由20℃上升到30℃,電阻率降低一半。摻雜:摻入少量的雜質(zhì),會(huì)使電阻率大大降低。純硅中摻入百萬分之一的硼,電阻率由
2.3×105·cm降至0.4·cm。光照:光照使電阻率降低。利用半導(dǎo)體的這些特性制成了各種各樣的半導(dǎo)體器件。引起導(dǎo)電性能產(chǎn)生很大變化的外界條件有:第五頁,共三十五頁,2022年,8月28日52.1.1半導(dǎo)體(Semiconductor)基本知識(shí)硅(鍺)的原子結(jié)構(gòu)Si284Ge28184半導(dǎo)體原子簡化模型+4慣性核價(jià)電子(束縛電子)+4+4+4+4+4+4+4+4+4價(jià)電子共價(jià)鍵硅(鍺)晶體的共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)共價(jià)鍵—本征半導(dǎo)體的原子結(jié)構(gòu)為共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)。相鄰原子共有價(jià)電子所形成的束縛。當(dāng)溫度T=0
K時(shí),半導(dǎo)體不導(dǎo)電,如同絕緣體。第六頁,共三十五頁,2022年,8月28日6+4+4+4+4+4+4+4+4+4本征激發(fā):
在室溫或光照下價(jià)電子獲得足夠能量擺脫共價(jià)鍵的束縛成為自由電子,并在共價(jià)鍵中留下一個(gè)空位(空穴)的過程。2.1.1半導(dǎo)體(Semiconductor)基本知識(shí)本征半導(dǎo)體中的自由電子和空穴空穴可看成帶正電的載流子載流子—自由運(yùn)動(dòng)的帶電粒子。本征激發(fā)產(chǎn)生自由電子和空穴兩種載流子。自由電子空穴復(fù)合—自由電子和空穴在運(yùn)動(dòng)中相遇重新結(jié)合成對(duì)消失的過程。漂移—自由電子和空穴在電場作用下的定向運(yùn)動(dòng)。第七頁,共三十五頁,2022年,8月28日7兩種載流子電子(自由電子)空穴兩種載流子的運(yùn)動(dòng)自由電子(在共價(jià)鍵以外)的運(yùn)動(dòng)空穴(在共價(jià)鍵以內(nèi))的運(yùn)動(dòng)
結(jié)論:1.本征半導(dǎo)體中電子空穴成對(duì)出現(xiàn),且數(shù)量少;電子和空穴兩種載流子均參與導(dǎo)電;
2.本征半導(dǎo)體導(dǎo)電能力弱,并與溫度和光照激發(fā)有關(guān)。自由電子和空穴使本征半導(dǎo)體具有導(dǎo)電能力,但很微弱。2.1.1半導(dǎo)體(Semiconductor)基本知識(shí)第八頁,共三十五頁,2022年,8月28日81、N(Negative)型半導(dǎo)體和P(Positive)型半導(dǎo)體N型+5+4+4+4+4+4五價(jià)雜質(zhì)原子自由電子電子為多數(shù)載流子空穴為少數(shù)載流子載流子數(shù)
電子數(shù)P型+3+4+4+4+4+4三價(jià)雜質(zhì)原子空穴空穴—
多子電子—
少子載流子數(shù)空穴數(shù)2.1.1半導(dǎo)體(Semiconductor)基本知識(shí)—摻雜第九頁,共三十五頁,2022年,8月28日92、P型、N型半導(dǎo)體的簡化圖示負(fù)雜質(zhì)離子多子少子多子少子結(jié)論(1)雜質(zhì)半導(dǎo)體雖有一種載流子占多數(shù),但整個(gè)半導(dǎo)體呈中性。(2)半導(dǎo)體的導(dǎo)電性主要取決多子的濃度。P型半導(dǎo)體N型半導(dǎo)體正雜質(zhì)離子施主離子受主離子2.1.1半導(dǎo)體(Semiconductor)基本知識(shí)—摻雜第十頁,共三十五頁,2022年,8月28日10在一塊半導(dǎo)體單晶上一側(cè)摻雜成為P型半導(dǎo)體,另一側(cè)摻雜成為N型半導(dǎo)體,兩個(gè)區(qū)域的交界處就形成了一個(gè)特殊的薄層,稱為PN結(jié)。PNPN結(jié)
PN結(jié)的形成一、PN結(jié)的形成2.1.2PN結(jié)(PNJunction)及其單向?qū)щ娦缘谑豁摚踩屙摚?022年,8月28日111.載流子的濃度差引起多子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)2.復(fù)合使交界面形成空間電荷區(qū)(耗盡區(qū)、勢壘區(qū))
空間電荷區(qū)特點(diǎn):無載流子,阻止擴(kuò)散進(jìn)行,利于少子的漂移。3.擴(kuò)散和漂移達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡擴(kuò)散電流等于漂移電流,總電流I=0。內(nèi)建電場2.1.2PN結(jié)(PNJunction)及其單向?qū)щ娦缘谑?,共三十五頁?022年,8月28日12二、PN結(jié)的單向?qū)щ娦?.外加正向電壓(正向偏置)P區(qū)N區(qū)內(nèi)電場+
UR外電場外電場使多子向PN結(jié)移動(dòng),中和部分離子使空間電荷區(qū)變窄。IF限流電阻擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)加強(qiáng)形成正向電流IF2.外加反向電壓(反向偏置)P
區(qū)N
區(qū)
+UR內(nèi)電場外電場外電場使少子背離PN結(jié)移動(dòng),空間電荷區(qū)變寬。IR正偏導(dǎo)通,呈小電阻,電流較大;反偏截止,電阻很大,電流近似為零。漂移運(yùn)動(dòng)加強(qiáng)形成反向電流IR于少數(shù)載流子濃度很低,反向電流數(shù)值非常小IR=I少子
0空間電荷區(qū)變窄,有利于擴(kuò)散運(yùn)動(dòng),電路中有較大的正向電流。第十三頁,共三十五頁,2022年,8月28日13三、PN結(jié)的伏安特性O(shè)u
/Vi
/mA正向特性UUthi
急劇上升0U
Uth
i=0反向特性ISU(BR)反向擊穿U(BR)
U0i=-IS
U<
U(BR)反向電流急劇增大(反向擊穿)1、正向特性2、反向特性第十四頁,共三十五頁,2022年,8月28日143、PN結(jié)的電流方程反向飽和電流溫度的電壓當(dāng)量電子電量玻爾茲曼常數(shù)當(dāng)T=300(27C):UT
=26mV第十五頁,共三十五頁,2022年,8月28日15加正向電壓
uD>0幾乎與反向電壓的大小無關(guān)加反向電壓
uD<0第十六頁,共三十五頁,2022年,8月28日16自測題:P23
評(píng)測一第十七頁,共三十五頁,2022年,8月28日17一、二、半導(dǎo)體二極管的結(jié)構(gòu)和類型構(gòu)成:PN結(jié)+引線+管殼=二極管(Diode)符號(hào):正極負(fù)極分類:按材料分硅二極管鍺二極管按結(jié)構(gòu)分點(diǎn)接觸型面接觸型點(diǎn)接觸型正極引線觸絲N型鍺片外殼負(fù)極引線負(fù)極引線
面接觸型N型鍺PN結(jié)
正極引線鋁合金小球底座金銻合金平面型集成電路中平面型半導(dǎo)體二極管的結(jié)構(gòu)與特性第十八頁,共三十五頁,2022年,8月28日18一、二、半導(dǎo)體二極管的結(jié)構(gòu)和類型第十九頁,共三十五頁,2022年,8月28日19三、二極管的伏安特性O(shè)uD/ViD/mA正向特性
UthUon
開啟電壓iD
=0Uth=
0.5V
0.1V(硅管)(鍺管)UUthiD急劇上升0U
Uth
導(dǎo)通電壓Uon
=(0.60.8)V硅管0.7V(0.10.3)V鍺管0.2V反向特性ISU(BR)反向擊穿U(BR)
U0iD=IS<0.1A(硅)幾十A
(鍺)U<
U(BR)反向電流急劇增大(反向擊穿)導(dǎo)通電壓第二十頁,共三十五頁,2022年,8月28日20反向擊穿類型:電擊穿熱擊穿反向擊穿原因:齊納擊穿:(ZenerBreakdown)反向電場太強(qiáng),將電子強(qiáng)行拉出共價(jià)鍵。
(高摻雜:擊穿電壓<6V,負(fù)溫度系數(shù))雪崩擊穿:反向電場使電子加速,動(dòng)能增大,撞擊使自由電子數(shù)突增?!狿N結(jié)未損壞,斷電即恢復(fù)?!狿N結(jié)燒毀。(低摻雜:擊穿電壓>6V,正溫度系數(shù))擊穿電壓在6V左右時(shí),溫度系數(shù)趨近零。三、二極管的伏安特性(AvalancheMultiplication)第二十一頁,共三十五頁,2022年,8月28日21硅管的伏安特性鍺管的伏安特性604020–0.02–0.0400.40.8–25–50iD
/mAuD/ViD
/mAuD
/V0.20.4–25–5051015–0.01–0.020結(jié)論:鍺管比硅管易導(dǎo)通,硅管比鍺管反向飽和電流小得多,所以硅管的單向?qū)щ娦院蜏囟确€(wěn)定性較好。三、二極管的伏安特性第二十二頁,共三十五頁,2022年,8月28日22溫度對(duì)二極管特性的影響604020–0.0200.4–25–50iD
/mAuD/V20C90CT
升高時(shí),由本征激發(fā)產(chǎn)生的少子濃度增加,導(dǎo)致PN結(jié)內(nèi)建電位差UB減小。UD(on)以
(22.5)mV/C下降三、二極管的伏安特性二極管的特性對(duì)溫度很敏感,具有負(fù)溫度系數(shù)。第二十三頁,共三十五頁,2022年,8月28日23四、二極管的主要參數(shù)1.
IF—
最大整流電流(最大正向平均電流)2.
URM—
最高反向工作電壓,為U(BR)/23.
IR
—
反向電流(越小單向?qū)щ娦栽胶?4.
fM—
最高工作頻率(超過時(shí)單向?qū)щ娦宰儾?iDuDU(BR)IFURMO第二十四頁,共三十五頁,2022年,8月28日242.1.4理想二極管及二極管特性的折線近似一、理想二極管模型特性u(píng)DiD符號(hào)及等效模型SS正偏導(dǎo)通,uD=0;反偏截止,iD=0U(BR)=二、二極管的恒壓降模型uDiDUD(on)uD=UD(on)0.7V(Si)0.2V(Ge)UD(on)第二十五頁,共三十五頁,2022年,8月28日252.1.4理想二極管及二極管特性的折線近似四、二極管的交流小信號(hào)模型三、二極管的折線近似模型uDiDUD(on)UI斜率1/rDrDUD(on)rD微變等效:二極管工作在正向特性的某一小范圍內(nèi)時(shí),其正向特性可以等效成一個(gè)微變電阻。第二十六頁,共三十五頁,2022年,8月28日26rd的計(jì)算rd與靜態(tài)工作電流有關(guān)。第二十七頁,共三十五頁,2022年,8月28日27
應(yīng)用舉例【例】二極管的靜態(tài)工作情況分析1、理想模型(R=10k)設(shè)VDD=10V2、恒壓模型(硅二極管典型值)3、折線模型(硅二極管典型值)設(shè)第二十八頁,共三十五頁,2022年,8月28日28【例】
試求電路中電流I1、I2、IO和輸出電壓UO的值。解:假設(shè)二極管斷開UP=15VUP>UN二極管導(dǎo)通等效為0.7V的恒壓源UO=VDD1
UD(on)=150.7=14.3(V)IO=UO/RL=14.3/3
=4.8(mA)I2=(UOVDD2)/R=(14.312)/1
=2.3(mA)I1=IO+I2=4.8+2.3=7.1(mA)VDD1VDD2UORLR1kW3kWIOI1I215V12VPN第二十九頁,共三十五頁,2022年,8月28日29【例】
ui=2sin
t(V),分析二極管的限幅作用并畫輸出波形。解:因ui較小,宜采用恒壓降模型D1D2uiuORui<0.7VD1、D2均截止uO=uiuO=0.7Vui0.7VD2導(dǎo)通D1截止ui<
0.7VD1導(dǎo)通D2截止uO=0.7V思考題:
D1、D2支路各串聯(lián)一個(gè)恒壓源,輸出波形如何變化?OtuO/V0.7Otui
/V20.7第三十頁,共三十五頁,2022年,8月28日30【例】電路如圖所示,二極管導(dǎo)通壓降UD=0.7V,試分別計(jì)算開關(guān)斷開和閉合時(shí)的UR。【解】當(dāng)開關(guān)斷開時(shí),二極管因加正向電壓而導(dǎo)通,故
UR=US1-UD
=7.3(V)當(dāng)開關(guān)接
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