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文檔簡介

1、CMR和電子關(guān)聯(lián)引言引言 問題的意義問題的意義第一部分第一部分 較早的工作較早的工作 第二部分第二部分 近年的進(jìn)展(講近年的進(jìn)展(講4 4個問題)個問題) 第一,關(guān)聯(lián)導(dǎo)致電荷、自旋和軌道 第二,新的凝聚狀態(tài)狀態(tài):相共存、相分離 第三,2 2維維“關(guān)聯(lián)”電子(MIS) 第四,p pn n結(jié)結(jié)(本所較多工作)第二部分 近年進(jìn)展第一個問題:關(guān)聯(lián)和有序關(guān)聯(lián)和有序(電荷、自旋、軌道)(1)前面,已經(jīng)討論過了電荷有序Wigner電子晶體為甚麼同時有序?右圖示意:波函數(shù)重疊方式交換作用 自旋“序”就不同*電荷、自旋、軌道有序(2) 的反鐵磁?的反鐵磁?Mn3離子自旋排列為反鐵磁(AFM)。原因:同一格座上

2、eg與t2g的洪德鐵磁(FM)耦合。 相鄰格座超交換AFM作用實際的軌道波函數(shù)的情況稍微復(fù)雜,實際的軌道波函數(shù)的情況稍微復(fù)雜, JahnTeller 效應(yīng)(電聲子作用)結(jié)果:自旋序和軌道序關(guān)聯(lián)(看下圖)結(jié)果:自旋序和軌道序關(guān)聯(lián)(看下圖)3LaMnO*電荷、自旋、軌道有序(電荷、自旋、軌道有序(3)原子3d波函數(shù)之間的距離、相對取向決定決定 交換作用的大小、符號。從而決定從而決定 自旋取向。自旋用箭頭表示軌道為eg電子波函數(shù)參看前面的簡易圖(其中含有氧原子)3LaMnO22223,3ryrx*電荷、自旋、軌道有序(4)摻雜情況 (各種x?)右圖中,圓圈 Mn4波瓣 Mn3 電荷、自旋、軌道有序(

3、5) (計算另講)Mn3+和Mn41,電荷棋盤2,自旋zigzag3,軌道轉(zhuǎn)向,35 . 05 . 0MnOSrLa電荷、自旋、軌道有序35 . 05 . 0MnOSrLa電荷、自旋、軌道有序(電荷、自旋、軌道有序(6 6)小結(jié):形成電荷、自旋和軌道有序的原因?小結(jié):形成電荷、自旋和軌道有序的原因? 1,電荷有序電荷有序: 勢能大于動能勢能大于動能 U t , 例如,一個格點只能有一個 eg 電子。2,軌道有序軌道有序: 畸變能大于動能畸變能大于動能 g t。 例如,eg、 t2g 電子的軌道要對于 JT 晶格畸變方向取向。3,自旋有序自旋有序 (接下一頁)(接下一頁)電荷、自旋、軌道有序(7

4、) 3,自旋有序:自旋有序: 離子內(nèi),Hund Hund 耦合大于動能耦合大于動能 JH t , 例如,離子內(nèi)部eg 自旋要平行於t2g自旋。 相鄰離子間,超交換作用超交換作用。 本質(zhì)上都是庫侖作用本質(zhì)上都是庫侖作用 Pauli Pauli 原理保證軌道有序與自旋有序的協(xié)調(diào)原理保證軌道有序與自旋有序的協(xié)調(diào)總之,庫侖作用的強(qiáng)關(guān)聯(lián)效應(yīng)庫侖作用的強(qiáng)關(guān)聯(lián)效應(yīng)。第二個問題:相分離相分離本講開始部分提出的問題是: (一塊)材料是金屬還是絕緣體?(能帶論)(能帶論)本講結(jié)束部分指出,還可以提出下列問題: (一塊)材料可以是金屬和絕緣體多相共存?(強(qiáng)關(guān)聯(lián))(強(qiáng)關(guān)聯(lián))為什么?1,這里是多種相互作用競爭的“臨界點

5、”。2,“顯微鏡”的分辨率大大提高。看到了真實。3,真正的量子圖像是超越超越“平均場平均場”近似的。近似的。 即,電子的關(guān)聯(lián)效應(yīng)。即,電子的關(guān)聯(lián)效應(yīng)。相分離現(xiàn)象(1) 各種有序相的互動?各種有序相的互動?薄膜 在稍低于Tc時的掃描隧道譜: 共存的絕緣相與金屬相團(tuán)簇隨磁場增加而此消彼長 Science ,285(1999)1540 相分離現(xiàn)象(2) 各種有序相的分離?共存?高分辨的原子像 IV 特性圖電子絕緣相(左)半導(dǎo)體相(右)第三個問題:二維電子系統(tǒng)第三個問題:二維電子系統(tǒng)電場效應(yīng)和低維CMR性質(zhì)以前,改變摻雜(濃度)和薄膜厚度(維度),導(dǎo)致相變 如果,引進(jìn)電場到多層膜結(jié)構(gòu),引進(jìn)電場到多層膜

6、結(jié)構(gòu), 也可以導(dǎo)致維度、濃度改變,從而導(dǎo)致相變。也可以導(dǎo)致維度、濃度改變,從而導(dǎo)致相變。優(yōu)點優(yōu)點: : 電場導(dǎo)致的相變,并不增加晶體的缺陷。電場導(dǎo)致的相變,并不增加晶體的缺陷。一個例子一個例子低維高溫超導(dǎo)體臨界點 8納米厚度的YBaCuO在MIS結(jié)構(gòu)中:門電壓的改變載流子濃度改變,從而臨界溫度改變。回憶:回憶:半導(dǎo)體二維電子系統(tǒng)MIS電場電場改變載流子濃度和維度濃度和維度回憶:回憶:半導(dǎo)體界面,電場(門電壓)改變載流子濃度、維度和類型 15,氧化物的場效應(yīng)晶體管(FET) ABO3的MIS電場(門電壓)改變載流子濃度、維度和類型rf . Nature 424,1015-1018(2003) C

7、.H.Ahn et alMn基基MIS La1xBaxMnO3 (as LBMO)PbZr0.2Ti0.8O3 (as PZT) SrTiO3(001) (as STO) 脈沖激光鍍膜(PLD) 極化極化PZT作絕緣體作絕緣體 (為了提高界面電場)(為了提高界面電場)電阻溫度關(guān)系,強(qiáng)關(guān)聯(lián)特征電阻溫度關(guān)系,強(qiáng)關(guān)聯(lián)特征 電場控制相變的證據(jù)電場控制相變的證據(jù) LBMO為空穴型半導(dǎo)體 門電壓為正,產(chǎn)生耗盡層 (depletion layer)濃度低。 門電壓為負(fù),產(chǎn)生堆積層 (accumulation layer)濃度高 不對稱困難點困難點ABO3 MIS具較高濃度。具較高濃度。而,半導(dǎo)體而,半導(dǎo)體M

8、IS有較低濃度。有較低濃度。 和半導(dǎo)體相比:有較高的濃度,就有較強(qiáng)的屏蔽和半導(dǎo)體相比:有較高的濃度,就有較強(qiáng)的屏蔽 Thomas ThomasFermiFermi屏蔽屏蔽,可以明顯減小庫侖作用的范圍可以明顯減小庫侖作用的范圍 其屏蔽長度 反比于載流子濃度(Fermi level)。 )(42FTFge數(shù)值例, 重?fù)诫s半導(dǎo)體半導(dǎo)體 金屬金屬 MOS的S和D之間的距離距離 LatticeAs3020100LatticeAs131sD32有較高的濃度,就有太窄的耗盡層有較高的濃度,就有太窄的耗盡層 MIS的耗盡層長度(平方)與載流子濃度成反比的耗盡層長度(平方)與載流子濃度成反比 難點之一:Mn基M

9、IS中,濃度達(dá)到 10191021/ cm3。 導(dǎo)致Zdnm。212DAdscdNNeKZ兩個解決方案 (i)極薄的drainsource channel,可以減少載流子的絕對量到1014/ cm2 (ii)用具有大的介電參數(shù)和擊穿電壓材料作MIS的絕緣層。提高提高Ksc! 選用強(qiáng)介電材料選用強(qiáng)介電材料PZT第四個問題:第四個問題:Mn基基pn結(jié)結(jié)(本所較多工作)(本所較多工作)“電場控制結(jié)電阻的金屬絕緣轉(zhuǎn)變電場控制結(jié)電阻的金屬絕緣轉(zhuǎn)變”一個例子強(qiáng)關(guān)聯(lián)特征存在整流效應(yīng)但是溫度上升,電導(dǎo)反而降低和半導(dǎo)體相反結(jié)電阻溫度關(guān)系 (具有強(qiáng)關(guān)聯(lián)特征)強(qiáng)關(guān)聯(lián)特征)電壓增大導(dǎo)致載流子濃度上升,電阻下降(強(qiáng)關(guān)聯(lián))濃度高,則Tp就(看APL)強(qiáng)關(guān)聯(lián))磁電阻溫度關(guān)系電壓增高導(dǎo)致MR減小(強(qiáng)關(guān)聯(lián)特征)(強(qiáng)關(guān)聯(lián)特征)pn結(jié)比較復(fù)雜(金奎娟等) 結(jié)語:我們討論了下列問題1,自旋電子學(xué)的一條途徑!2,高溫超導(dǎo)性機(jī)制尚未解決3,什么是“

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