鍍膜操作員試題庫(kù)-最新的

1、鍍膜操作員試題庫(kù)1.SiO2料面的哪些因素對(duì)鍍膜曲線有影響？A、B DA .平整度B.高度C.潔凈度D.硬度2. 真空度的單位有哪些？A、C、D A . PaB. NC. TorrD. mbar3. 用普通加熱工藝鍍膜時(shí)，烘烤的恒溫時(shí)間最少要求是多少？A A . 20分鐘B. 30分鐘 C. 40分鐘 D. 50分鐘4. 普通IR膜系，哪兩個(gè)波長(zhǎng)段最容易掉坑？A、B A . 400nmB. 500nm C. 600nmD. 900nm5. 用分光光度計(jì)檢測(cè)光譜曲線的中心波長(zhǎng)時(shí)，鏡片放傾斜了，如此測(cè)量值與真實(shí)值比擬,C A .相等B.偏長(zhǎng)C.偏短D.不一定6. 流程卡外表質(zhì)量20um,是指AA、

2、點(diǎn)子大小B 點(diǎn)子比例 C、點(diǎn)子間隔D、道子寬度7. 穿脫凈化服流程A A、手套t浴帽t凈化帽t凈化服t凈化鞋t口罩B浴帽t凈化帽t凈化服t凈化鞋t口罩t手套C手套t口罩D手套T口罩T浴帽T凈化帽T凈化服T凈化鞋8. 在鍍膜過(guò)程中，石英晶振可以顯示以下哪些數(shù)值？（ AD ）A、蒸發(fā)速率B、蒸發(fā)溫度 C、真空度D、膜層厚度9. 材料蒸發(fā)時(shí)，充氧的主要目的有哪些？ ABA、補(bǔ)充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜層吸收B、使每次鍍膜時(shí)，真空室內(nèi)的真空狀態(tài)相接近 C、使蒸發(fā)更穩(wěn)定 D、使控制更準(zhǔn)確。10. 鍍膜機(jī)球罩的轉(zhuǎn)動(dòng)架須高速轉(zhuǎn)動(dòng)的目的是ABCDA、使同圈的膜層厚度分布均勻B、使內(nèi)外排膜層厚

3、度分布均勻C、使同圈溫度分布均勻D、使內(nèi)外排溫度分布均勻11. 現(xiàn)在我們生產(chǎn)lr-cut 中心波長(zhǎng)650nm平板濾色片，從反射看平板的顏色是 AA、紅色B、綠色C、藍(lán)色D、沒(méi)有規(guī)律12. 油擴(kuò)散泵上面加冷阱，其作用是（A D ）.A.防止擴(kuò)散油分子回流到真空室B.加快排氣速度 C.防止雜物掉入擴(kuò)散泵.D、提高膜層附著力13. 為使蒸發(fā)材料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基板時(shí)根本不和剩余氣體分子發(fā)生碰撞，故真空室內(nèi)真 空度要到達(dá)10-3Pa以下，以滿足（B ）條件A、氣體分子平均自由程小于蒸發(fā)距離.B、氣體分子平均自由程遠(yuǎn)大于蒸發(fā)距離C、氣體分子平均自由程等于蒸發(fā)距離。D氣體分子平均自由程的平方大于蒸發(fā)距離。

4、14. 對(duì)鍍膜材料進(jìn)展預(yù)熔的目的是A CA、去除材料內(nèi)部的雜質(zhì) B、改變材料的外表形狀 C、減少材料的放氣 D、提高材料的溫度15. 真空鍍膜時(shí)真空度 X圍應(yīng)在CA、低真空B、中真空C、高真空 D、超高真空16. 電子槍“ FIL "燈變紅，故障原因是CA、電子槍高壓線路故障 B、真空室底下門沒(méi)有關(guān)好C、電子槍燈絲有問(wèn)題D、電子槍電流回路故障。17. 提高膜層聚集密度工藝有ADA、提高離子源功率 B、降低溫度C、降低真空度 D、提高溫度18. 黃色互補(bǔ)色是BA、綠色B、藍(lán)色C、紅色D、紫紅色19. 增強(qiáng)膜層和鏡片附著強(qiáng)度，以下那些因素有關(guān) ABCDA、鏡片外表清潔度 B、鏡片外表溫度

5、 C、真空室內(nèi)清潔度 D、膜層材料20. 鍍650土 10 IR-CUT濾色片，請(qǐng)問(wèn)鍍出在哪個(gè)波長(zhǎng)X圍內(nèi)合格BA 640660nm B、640655nm C、630-660nm D、635-660nm21. 在可見光光譜中，綠色波長(zhǎng)X圍是DA 600-570 B、500-450 C、630-600 D、570-50022. RF離子源中和器正常工作時(shí)，需要如下哪些氣體？（ AC ）冷卻時(shí)需要什么氣體？（ C ）A、氧氣（02） B、氮?dú)猓∟2） C、氬氣（Ar） D、氦氣（He）23. 鍍膜鏡片外表產(chǎn)生雜質(zhì)，以下哪些是可能原因？ ABCDA、材料本身不純，有雜質(zhì)B、預(yù)熔時(shí)沒(méi)熔透，鍍膜時(shí)有飛濺

6、C、光斑打到邊緣或外邊，將其它物質(zhì)鍍到鏡片上 D、坩堝蓋板太臟，預(yù)熔時(shí)有膜料殘?jiān)暨M(jìn)坩堝24. 鍍膜機(jī)抽速慢，以下哪些可能會(huì)引起？ ABCDA、各類泵油使用時(shí)間太長(zhǎng)，已變質(zhì)B、POLYCOLDT問(wèn)題C、真空室的清潔不到位 D、機(jī)器有漏氣25. 真空室內(nèi)部清掃不干凈，可能會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果？ABCDA、機(jī)器抽速慢B、產(chǎn)品外表質(zhì)量差 C、機(jī)器效率降低 D、分光特性不重復(fù)26. 如下哪些因素影響內(nèi)外排的均勻性？（ ABD ）A、電子槍光斑的位置 B、電子槍光斑的形狀、大小C、真空度不穩(wěn)定 D、修正板的形狀和上升高度27. 正常情況下，真空室內(nèi)部清洗干凈后，機(jī)器的抽氣速度將（B ）A、變慢B、變快C、

7、不變D、無(wú)法判斷。28. 電子槍燈絲變形，可能有以下哪些結(jié)果？ ABCDA、電子槍光斑變形，位置打偏B、內(nèi)外排分布不均勻 C、分光特性不良 D、產(chǎn)生雜質(zhì)29. 在一樣光斑大小和蒸發(fā)速率的情況下，AL2O3電子槍功率ASiO2電子槍功率A、大于B、小于C、等于D、不知道30. 如下屬于鍍膜機(jī)粗抽閥門符號(hào)是 CA、LV B、SLV C、RV D SRV30.1 Torr= ( BC )A、1Pa B、133Pa C、1.33Mbar D、IMbar31. 光馳OTFCt膜機(jī)離子源有C片柵極片ABC丨因素有關(guān)33. 如果你鍍出來(lái)一罩產(chǎn)品有的圈產(chǎn)品合格，有的圈產(chǎn)品不合格，與如下A、光斑不在中心位置 B

8、、修正板變形 C、電子槍檔板松掉 D、蒸發(fā)速率不穩(wěn)34. 在鍍IR-CUT時(shí)，鍍出產(chǎn)品外表發(fā)黑，其原因是 DA、鍍膜材料受到污染 B、內(nèi)外排分布不均勻C、溫度沒(méi)有加D、充氧不夠35. 如下那個(gè)符號(hào)代表高閥CA、FV B 、MBP C、MV36.如下那個(gè)符號(hào)代表光控AA OPM B 、EB C、MBP37.關(guān)門抽真空，般當(dāng)真空度抽到A 1.5E-3Pa B、5.0E-3Pa C38.目前控制膜厚種類有ACA、光學(xué)膜厚儀控制 B、電子槍控制D、DPD 、PFCB時(shí)開始自動(dòng)預(yù)熔膜料、2.0E-3Pa D 、5.0E-5PaC、晶振膜厚儀控制 D、電腦控制39. MgF2材料，我們可以采用是哪種蒸發(fā)方

9、式：ADA 電子槍蒸發(fā)B、鉬舟蒸發(fā)阻蒸法C、都不是D、離子輔助蒸發(fā)40. 正常可升降修正板的鍍膜機(jī)，假如EB2正在鍍膜,EB1,EB2上方的修正板，處于何種狀態(tài)？(BC )A、EB1上方的修正板升起 B、EB2上方的修正板升起 C、EB1上方的修正板下降 D、EB2 上方的修正板下降41. 萊寶鍍膜機(jī)在鍍膜過(guò)程中，需要操作員工關(guān)注以下哪些情況?( ABCD )A、蒸發(fā)速率穩(wěn)定情況 B、APC充氧情況C、電子槍光斑位置與大小情況D、光控曲線的走向與形狀42. 手動(dòng)預(yù)熔材料時(shí)，應(yīng)注意如下哪些事項(xiàng)？ ABCDA、真空室內(nèi)達(dá)到一定的真空度，開始加電流預(yù)熔材料B、光斑不能打到坩堝邊上，更不能打到坩堝外邊

10、 C、預(yù)熔時(shí)的最高電流一定要高于蒸發(fā)時(shí)的電流D、不同材料不同的預(yù)熔電流43. 如下哪些部件在機(jī)器運(yùn)行時(shí)需要冷卻水？（ BCD ）A、電子槍B、擴(kuò)散泵C、坩堝盤D、晶振頭44. 對(duì)于AR膜而言，如下哪個(gè)波段反射率偏高時(shí)，鏡片的反射光呈現(xiàn)紅色？ DA、40042Onm B 、500530nmC 、58062Onm D、630760nm45. 每臺(tái)機(jī)器安裝修正板的目的是（C ）A、調(diào)整內(nèi)外排溫度分布 B、調(diào)整機(jī)器內(nèi)的真空度分布C、調(diào)整內(nèi)外排膜厚分布 D調(diào)整同圈厚度分布46. 如果加熱板下方的溫度探頭移位，比正常時(shí)要低許多，結(jié)果鏡片溫度將會(huì)：BA、比正常時(shí)低 B、比正常時(shí)高 C、根本不變D、劃破鏡片4

11、7. 在蒸鍍膜料時(shí)，電子槍電流有，但加不高的原因是 ADA、裝電子槍燈絲螺絲松了B、電子槍燈絲壽命到期C、燈絲斷了 D、高壓引線松動(dòng)48. 鍍膜機(jī)中EB代表的含義CA、電腦B、擴(kuò)散泵C、電子槍D、光斑49. 如下B丨符號(hào)代表Y方向的光斑大小A、YP B 、YSC 、XPD、EB50. 如下A丨符號(hào)代表X方向的光斑位置AXPB、XS C、YP D、EB51. 以下材料折射率最高的是C，折射率最低的是DA、SIO2 B 、AL2O3 C 、TIO2 D 、MGF252. 晶振不好會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果ACA、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、外表不好D、膜層結(jié)實(shí)度不好53. 充氧不穩(wěn)會(huì)導(dǎo)致以下哪些

12、結(jié)果AA、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、外表不好D、膜層結(jié)實(shí)度不好54. 光控曲線不好會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果 AA、整罩分光特性超差 B、均勻性不好C、外表不好D、膜層結(jié)實(shí)度不好55. 溫度不對(duì)會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果ABDA、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、外表不好D、膜層結(jié)實(shí)度不好56. 真空度不對(duì)會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果 ABDA、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、外表不好D、膜層結(jié)實(shí)度不好1. 鍍膜膜層厚度監(jiān)控方法有晶控和光控 兩種。2. 產(chǎn)品規(guī)格為77*77的晶片，鍍膜一罩可以裝120片，下片時(shí)由于不小心弄碎了1片，那么該罩的碎片率為 0.8% 。3. 目前GENE機(jī)的透亮工藝其烘

13、烤溫度是250/150/150。4. 目前規(guī)定的防污板更換周期為12 罩。更換防污板空鍍時(shí)要鍍鉻 。5. 光學(xué)厚度=物理厚度 X折射率 。6. 測(cè)量真空的器械稱為 真空計(jì)。一般分為電離規(guī)真空計(jì)和電阻式真空計(jì)兩種。7修正板有R記號(hào)的是 槍2 填槍1或槍2修正板。8. 烘烤時(shí)間在原有根底上加長(zhǎng)半小時(shí)，中心波長(zhǎng)會(huì)偏長(zhǎng)填偏長(zhǎng)或偏短。9. 電子槍的高壓是 7千伏。10. 光源燈使用壽命一般為：2000小時(shí)。11.1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓 =1.01*10 + 5 Pa。12. 按照目前工藝要求，鍍膜三罩后需更換鋁板和 修正板 的鋁箔。13. 放片盒上的標(biāo)示，該標(biāo)示 跟蹤號(hào)、產(chǎn)品規(guī)格、 材料、圈數(shù)、 數(shù)量。14.

14、當(dāng)某罩產(chǎn)品良品數(shù)低于 40%判定為報(bào)廢。15.1Torr 133 Pa ; 1 標(biāo)準(zhǔn)大氣壓=760Torr ; 1A安=1000 mA毫安；16.10 毫米=1000S絲=10000 卩 m微米=10000000 nm納米=100000000 ?埃；17. 鍍膜時(shí)蒸發(fā)速率的單位是？ /s ;18. 鍍膜機(jī)的系統(tǒng)可分為抽真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、膜厚控制系統(tǒng)和輔助系統(tǒng) 四個(gè)系統(tǒng)。19. 光是沿直線傳播；它是一種頻率極高的電磁波；一般可見光X圍在400700納米之間。20. 光學(xué)低通濾波器，簡(jiǎn)稱OLPF ,它是使通過(guò)數(shù)碼相機(jī)的或數(shù)碼攝象機(jī)鏡頭后的光濾去其高頻 波段，只讓一定X圍內(nèi)的低頻光波通過(guò)頻率控制器

15、件， 對(duì)于高像素的的 CCD或CMO圖象 傳感器，為了提高彩色 CCD或 CMO圖象傳感器有效分辨率和彩色復(fù)原性，必須在鏡頭和CCD或 CMO圖象傳感器之間加上光學(xué)水晶低通濾波器，使圖象更清晰和穩(wěn)定。21. 離子輔助IAD原理：IAD技術(shù)是在電子束蒸發(fā)的同時(shí)用離子束轟擊，離子由離子源產(chǎn)生，離子束由柵極引出，電子槍和離子源各自獨(dú)立工作。膜層在離子的轟擊作用下獲得能量，使結(jié)構(gòu)得到改善。22. 次品片標(biāo)示卡要標(biāo)示的內(nèi)容有跟蹤號(hào)、規(guī)格、材料、數(shù)量、膜系。23. 電子槍的XS指光斑上下大小，XP指光斑上下位置，YS指光斑左右大小,YP指光斑左右24. 萊寶機(jī)電子槍的高壓是 8千伏。25. 萊寶機(jī)陶瓷加熱

16、片的 O形觸點(diǎn)的方向?yàn)?向下填向上或向下。26. 萊寶機(jī)在吹水過(guò)程中，吹掉的是離子源加熱系統(tǒng)、離子源發(fā)射系統(tǒng)、Sio2電子槍系統(tǒng)和Tio2電子槍系統(tǒng)這四個(gè)局部的冷卻水。27. 假設(shè)曲線波長(zhǎng)變長(zhǎng)，那應(yīng)該把修正葉加寬填加寬或減窄。28. 當(dāng)某罩產(chǎn)品良品數(shù)低于 40%判定為報(bào)廢。29. 背反式光控鍍膜機(jī)生產(chǎn) IR CUT濾色片，每層開鍍時(shí)，TiO2材料的起始光控曲線方向向上,SiO2材料的光控曲線方向向下。30. 新科隆機(jī)SID1350中的離子源，有3片柵極，從上到下依次為 TOP , MID , BOT ;柵極間 總共有12片陶瓷片絕緣.30. 1看到水中筷子是彎曲的，利用光的折射原理2看到鏡子里

17、自已像，利用光的反射 原理3光學(xué)薄膜利用光的干預(yù)原理 .31. 真空可以大致分為四段，分別為 初真空、低真空、高真空、超高真空.32. 在真空的定義 X圍內(nèi)，高真空度 X圍是10-1 Pa -10-6 Pa33. 目前我們鍍膜機(jī)抽真空系統(tǒng)一般由機(jī)械泵、羅茨泵、擴(kuò)散泵組成34. 保持鍍膜機(jī)開門時(shí)間盡可能的短，是為了防止真空室內(nèi)部的護(hù)板吸附空氣中的水汽， 使鍍膜機(jī)的抽速變慢，影響產(chǎn)品的品質(zhì)。35. 普通加熱工藝鍍制的薄膜微觀結(jié)構(gòu)是柱狀結(jié)構(gòu)，為了改善膜層結(jié)構(gòu)，提高聚集密度，分別出現(xiàn)了三種成膜工藝離子輔助鍍、反響離子鍍、濺射鍍36. 鍍單層MgF2,目前鍍的是500nm晶振厚度顯示是 1000A,而現(xiàn)

18、在需要鍍 550nm那么輸 入晶振厚度約為 1100 A37. 該層晶振厚度是800A，現(xiàn)已鍍了 150A，由于某種原因充氣而需要加鍍，那么加鍍晶振厚度是650 A38. 寫出鍍膜機(jī)各控制閥門的中文名稱：MV高閥DP擴(kuò)散泵RV粗抽閥SLV細(xì)充氣閥FV輔助閥39. 光學(xué)玻璃BK7折射率為1.517,如此該玻璃外表單面反射率是4.219% 。40. 石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個(gè)效應(yīng)，即壓電效應(yīng)和質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)。41. 晶振片和鍍膜材料應(yīng)放在枯燥器 中的目的是： 防止在空氣中受潮 。42. 機(jī)器大清洗后應(yīng)進(jìn)展抽真空和加熱處理，才能正常生產(chǎn)。1. 擴(kuò)散泵油被氧化后，仍然可以使用一段時(shí)間。X

19、 2. 每次開機(jī)前都需要對(duì)鍍膜機(jī)進(jìn)展全面檢查，但換電時(shí)例外。 X 3. 對(duì)12分積分/年累計(jì)大于12分含12分違紀(jì)者，公司有權(quán)給予解除勞動(dòng)合同 V 4. 工作時(shí)間上網(wǎng)玩游戲，看影視劇，聽耳機(jī)是可以原諒的 X 5. 上片過(guò)程中，有人從球罩邊上快速地走過(guò)，但沒(méi)碰到片，不會(huì)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。X 6. 有急事時(shí)，鍍膜車間里可以接聽手機(jī)。X 7. 坩堝擋板裝偏了會(huì)導(dǎo)致漏料問(wèn)題。V 8. TQ2的充氧量過(guò)多會(huì)導(dǎo)致脫膜問(wèn)題。V 9. 戴手套的手指可以接觸產(chǎn)品片的外表。X 10. 曲線要求一樣的前后兩罩產(chǎn)品片可以混到一起，不會(huì)產(chǎn)生不良后果。X 11. 自動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)不需要考慮真空度就可以直接關(guān)機(jī)X12. 自動(dòng)關(guān)

20、機(jī)時(shí)只要把總電源關(guān)掉就可以了 X13. 關(guān)擴(kuò)散泵后等待30分鐘就可以關(guān)掉設(shè)備總電源 x14. 手動(dòng)開機(jī)時(shí)，打開擴(kuò)散泵DP加熱開關(guān)前先需把 MV閥打開，否如此會(huì)影響擴(kuò)散泵抽速X15. 手動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)，關(guān)閉擴(kuò)散泵加熱，等冷卻 50分鐘后，需先關(guān)閉MV閥、再關(guān)羅茨泵和機(jī)械泵x16. 在鍍膜前先需核對(duì)所鍍鏡片與流程卡是否相符 V17. 添加SI02膜料藥勺可以拿來(lái)添加氟化鎂膜料X18. 鍍膜員工可以保管不合格鏡片 X19. 不合格鏡片非專職人員可以隨便拿取X20. 在裝韓一電子槍時(shí)，裝好電子槍燈絲擰緊電子槍燈冒，但擰緊之后又要倒轉(zhuǎn)1/4圈V21. 電子槍光斑X方位置偏移不在中心時(shí)，我們只需調(diào)節(jié)XP V22

21、. 在一樣光斑條件下，電子槍鍍AL2O3電流跟MGF2電流大小差不多 X23. 鍍膜機(jī)鍍膜完畢，不需要冷卻可直接充氣X24. 每次更換晶振，除了我們換上新的晶振，還必須把晶振頭也清冼干凈V25. 濾片主要材料是人造光學(xué)水晶X.26. 鍍膜機(jī)冷卻水的水溫越低越好X.27. 換過(guò)防污板之后不烘烤就可以上片，這樣可以節(jié)省時(shí)間X .28. 倒片時(shí)可以不用戴乳膠手套 X .29. 換電之后擴(kuò)散泵要重新預(yù)熱50分鐘后才能升高閥 X .30. 按作業(yè)流程要求在上片之前一定要查看合同評(píng)審單，確認(rèn)是否能上片V丨.31. 鍍膜TI3O5其中一層沒(méi)有充氧，這樣對(duì)曲線沒(méi)有影響.（ X ）32. 換電時(shí)先關(guān)機(jī)械泵，再關(guān)

22、預(yù)閥，后關(guān)擴(kuò)散泵.（ X ）33. 鍍膜凈化間規(guī)定每 3小時(shí)記錄一次溫濕度.（ X ）34. 凈化級(jí)別是千級(jí)的意思是指每立方米空間中含有0.5um的顆粒粉塵小于1000個(gè)。（V ）35. “ 6S"是整理Seiri、整頓（Seito）、清掃（Seizo）、清潔（Seimitsu）、素養(yǎng)（Shitsuke） 和安全Safety、這六個(gè)詞的縮寫。（V ）1簡(jiǎn)述在鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生雜質(zhì)的原因和對(duì)策？答：原因?qū)Σ?.電子槍周圍沒(méi)有打掃干凈用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件 2坩鍋沒(méi)有清冼干凈坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼干凈3鍍膜時(shí)電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時(shí)必須把電子槍光斑打到中間而不能

23、打偏4預(yù)熔材料不透徹把膜料充分地預(yù)熔透徹5預(yù)熔膜料電流加得太快加電流要緩慢，不要加的太快6.電子槍檔板不干凈每罩要更換電子槍檔板，以與電子槍檔板要清冼干凈 7.膜料污染防止膜料相互污染，以與保存方法8.膜料本身不純更換其它品種膜料2從操作角度來(lái)看，如何操作和保養(yǎng)才能讓一臺(tái)鍍膜機(jī)的膜系穩(wěn)定？答：此題是員工自由發(fā)揮題目，沒(méi)有明確答案，可以從以下三個(gè)方面考慮：1、如何按照作業(yè)指導(dǎo)書進(jìn)展操作？ 2、如何維護(hù)設(shè)備日常保養(yǎng)？ 3、在鍍膜時(shí)出現(xiàn)問(wèn)題時(shí)， 怎樣去解決這些 問(wèn)題？3. 簡(jiǎn)述一下鍍金屬膜須知事項(xiàng)？答：高的真空度 、低基板溫度、快蒸4. 在使用擴(kuò)散泵應(yīng)注意那些事項(xiàng)？答：1、冷卻水不足，必須關(guān)閉擴(kuò)散泵

24、，否如此輕如此會(huì)造成返油，重如此會(huì)使擴(kuò)散泵過(guò)熱造成擴(kuò)散泵油燒焦。機(jī)器假如有自動(dòng)保護(hù)裝置，會(huì)自動(dòng)停止擴(kuò)散泵加熱，并報(bào)警2、擴(kuò)散泵必須在低真空閥關(guān)閉， 預(yù)抽閥開啟，且系統(tǒng)真空高于真空室真空時(shí)才能打開， 否如此會(huì) 造成真空室返油5. 為什么要在高真空下鍍膜？答：1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對(duì)高熔點(diǎn)的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。2、真空狀態(tài)下，真空室中空氣極少，膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片外表的路程中幾乎不與殘留在真 空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長(zhǎng)。膜料容易沉積在基片上。3、由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子

25、等化學(xué)活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化，從而保證膜層的膜料純度。6. 晶振水堵塞后你怎么進(jìn)展疏通 ？答：把晶振冷卻水管進(jìn)口、出口從連接處斷開，并把閥門關(guān)上，用壓縮空氣氣槍從進(jìn)口處吹入壓縮空氣，看出口處是否有異物流出？7. 鍍膜機(jī)在自動(dòng)鍍膜時(shí)發(fā)生報(bào)警，而作為一名操作員工應(yīng)如何處理報(bào)警？答：首先按報(bào)警暫停按紐， 查看報(bào)警內(nèi)容，看自已是否知道？能否自已解決？如不能自已解決，查看作業(yè)指導(dǎo)書是否有，如沒(méi)有向組長(zhǎng)匯報(bào)，由組長(zhǎng)再向技術(shù)人員詢問(wèn)如何解決，直到報(bào)警內(nèi)容消除后才能按繼續(xù)鍍膜的鍵。8作為一名交班者，你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)該讓接班者清楚哪些事情，同時(shí)作為一個(gè)接班者你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)該從前一班中清

26、楚哪些事情？答：此題是員工發(fā)揮題，可以從以下幾個(gè)方面答題1、本班在上班時(shí)，生產(chǎn)那些產(chǎn)品，以與用的什么膜系來(lái)鍍膜的？2、在本班期間出現(xiàn)了那些問(wèn)題，用什么方法來(lái)解決的？以與要注意那些問(wèn)題，這些都要交給下個(gè)班，也需要下個(gè)班來(lái)詢問(wèn)這些問(wèn)題。3、上個(gè)班有那些試制需要下個(gè)班來(lái)完成，把被交待情況詳細(xì)交給下過(guò)班。9. 簡(jiǎn)述一下鍍膜機(jī)的開機(jī)與關(guān)機(jī)過(guò)程。答：開機(jī) 冷卻水和壓縮空氣檢查 開穩(wěn)壓電源 開機(jī)器總電源 加熱擴(kuò)散泵 開電子槍電源 打 開光控電源 開記錄儀開關(guān) 開晶振開關(guān) 打開電腦關(guān)機(jī)：打掃機(jī)器 抽真空 關(guān)擴(kuò)散泵 關(guān)電子 槍電源 關(guān)光控電源 關(guān)記錄儀開關(guān) 關(guān)晶振開關(guān) 關(guān)電腦 關(guān)總電源10. 在鍍膜之前為什么要

27、預(yù)熔材料？答：在鍍膜之前要把材料預(yù)熔透徹，主要是為了材料進(jìn)展放氣，消除材料中其它成份，保持鍍膜不產(chǎn)生飛濺和保持真空度穩(wěn)定。11. 在鍍膜上傘鏡片之前，我們應(yīng)注意和確認(rèn)那些項(xiàng)目？答：1流程卡與鍍膜片相符 2可否同罩3是否是被鍍膜面4膜料與程序里的坩堝號(hào)是否對(duì) 應(yīng)5檔板的平穩(wěn)，有無(wú)松動(dòng)6晶片的壽命與活性值。7電子槍壽命與有無(wú)異物 8光控片是 否夠用12. 離子源使用完畢后，機(jī)器會(huì)自動(dòng)充入氬氣對(duì)其冷卻，冷卻的目的是什么？答：主要目的是快速冷卻，由于氬氣是不活潑性氣體，很難與離子源部件發(fā)生氧化。13. 機(jī)器在開鍍之前我們進(jìn)展恒溫的目的是什么？答、使機(jī)器內(nèi)所要鍍制的鏡片溫度均勻。14. 機(jī)器鍍膜完畢，沒(méi)

28、有直接充入大氣，而是先冷卻，冷卻的目的是什么？答：其目的是保持鏡片溫度緩慢降低，防止鏡片溫度突然下降，導(dǎo)致鏡片炸裂。15. 如何用簡(jiǎn)單的方法檢驗(yàn)剛換好的氧氣或氬氣瓶各聯(lián)結(jié)處是否漏氣？答：1、先打開瓶閥，在一個(gè)小塑料盒子盛入一些洗衣粉或洗滌精和水，攪拌成泡沫，用紗布把這些泡沫攢到各個(gè)聯(lián)結(jié)處，看是否有小汽泡冒出，如有說(shuō)明該聯(lián)結(jié)處有漏氣。2、先打開瓶閥，之后再關(guān)掉，看各表指針讀數(shù)是否變化。16. 如果晶振速率突然不穩(wěn)你該怎么處理？答：如果是晶振控制的可以按照不穩(wěn)時(shí)間和電流估計(jì)出實(shí)際所蒸鍍的厚度，之后換一片晶振加鍍；如果是光控控制的可以以光控為準(zhǔn)換一片晶振繼續(xù)蒸鍍。17作為一名鍍膜員工，為了把工作做得

29、更好，你想學(xué)習(xí)鍍膜工藝技術(shù)中哪些方面的知識(shí)？18. 請(qǐng)列舉一下，你認(rèn)為鍍膜員工容易出現(xiàn)的錯(cuò)誤有哪些？有什么好的預(yù)防和補(bǔ)救措施？19. 擴(kuò)散泵的結(jié)構(gòu)如如下圖所示，請(qǐng)標(biāo)示出個(gè)局部名稱，并說(shuō)明其作用。1 冷阱：幫助油蒸汽冷卻回流，防止油分子進(jìn)入到真空腔室內(nèi)2泵體冷卻水管：幫助油蒸汽冷卻回流，冷卻泵體，3三級(jí)噴嘴：通過(guò)噴嘴， 讓高速向上的油蒸汽轉(zhuǎn)變方向，形成向下的蒸汽流 帶動(dòng)水分子向下流動(dòng)達(dá)到抽取真空的目的。4擋油板：防止油蒸汽被抽走，有冷卻油蒸汽的作用，讓抽到此處的油蒸汽回流。5加熱電爐絲：給擴(kuò)散泵油加溫，使之能達(dá)到較高的溫度。獲得高速向上的油蒸汽。20. 寫出鍍膜過(guò)程應(yīng)注意哪些參數(shù)變化？答：鍍膜過(guò)

30、程中應(yīng)注意真空度是否穩(wěn)定、光量走值是否平滑無(wú)波動(dòng)、蒸發(fā)速率穩(wěn)定在設(shè)定X圍內(nèi)、電子槍能量是否穩(wěn)定、離子源的各參數(shù)變化。21. 寫出更換防污板和上下片過(guò)程中的須知事項(xiàng)。答：更換防污板時(shí)要注意：當(dāng)前罩?jǐn)?shù)鍍制到后幾層時(shí)，由操作人員或副操作到輔助房要求準(zhǔn)備防污板，把準(zhǔn)備好的防污板用酒精擦拭干凈，清點(diǎn)數(shù)量是否有少拿或多拿的現(xiàn)象。等待鍍完。鍍完后開始更換防污板，換板過(guò)程中要注意拆卸時(shí)由外到里、由下至上，安裝時(shí)由里到外、由上至下的順序。這樣可以減少動(dòng)作的重復(fù)和減少灰塵的殘留。換完污板后要檢查各污板是否安裝到位、是否有螺絲松動(dòng)、是否有錯(cuò)裝或漏裝等現(xiàn)象。防止因此導(dǎo)致的生產(chǎn)事 故。上下片須知事項(xiàng)：當(dāng)機(jī)器鍍制完最后一

31、層后，準(zhǔn)備該罩需更換的各部件比如燈絲、光控片、晶振片、視窗玻璃等。準(zhǔn)備下一罩產(chǎn)品，與時(shí)獲得將鍍制產(chǎn)品的信息。將下片推車準(zhǔn)備好等待開箱。 打開箱門后，將推車搖至所需高度注意一定要升降到位，防止撞到機(jī) 器內(nèi)部各部件，將裝片球罩卸下，開始清潔機(jī)器內(nèi)部衛(wèi)生和將產(chǎn)品取出注意由于剛下片 時(shí)溫度較高，所以要戴上手套等防止?fàn)C傷。還要與時(shí)測(cè)試產(chǎn)品的曲線變化。清潔完畢，檢查各部件是否安裝更換到位。然后開始上片上片前應(yīng)確認(rèn)該產(chǎn)品生產(chǎn)批號(hào)與規(guī)格要求是否 與上罩相符，如異常應(yīng)與時(shí)通知當(dāng)班值機(jī)人員做好調(diào)整準(zhǔn)備。上片過(guò)程中應(yīng)注意輕拿輕放，注意人員走動(dòng)，注意不應(yīng)有幅度過(guò)大的行為動(dòng)作。將產(chǎn)品放入機(jī)器后再次確認(rèn)機(jī)器設(shè)備的狀態(tài)，確

32、認(rèn)無(wú)誤后關(guān)箱開始抽真空。22. 請(qǐng)寫出鍍膜機(jī)從關(guān)箱到獲得高真空狀態(tài)的抽真空作業(yè)流程，要求寫明步驟和須知事項(xiàng)，可用流程圖表示。假設(shè)機(jī)器準(zhǔn)備工作都已經(jīng)完成8分答：自動(dòng)狀態(tài) 按下“真空室抽氣'鍵一一預(yù)閥關(guān)閉一一微量抽氣閥打開一一低閥打開一一 微量抽氣閥關(guān)閉一一等待抽至低真空狀態(tài)一一關(guān)閉低閥一一打開預(yù)閥一一打開高閥一一獲 得較高真空手動(dòng)狀態(tài) 按下“機(jī)械泵RP "此過(guò)程羅茨泵MBP等待30秒一一按下羅茨泵MBP 關(guān)閉預(yù)閥FV此過(guò)程必須在開啟低閥前完成，否如此會(huì)導(dǎo)致返油現(xiàn)象一一按下微量抽氣閥SRV 按下低閥RV一一關(guān)閉微量抽氣閥SRV等待真空度達(dá)到所需真空如 6.0*10-1PA一一關(guān)閉

33、低閥RV 打開預(yù)閥FV一一打開高閥MV獲得所需的高真 空。在整個(gè)抽真空過(guò)程中，切記勿錯(cuò)誤操作，必須按照此流程進(jìn)展作業(yè)。23. 請(qǐng)簡(jiǎn)述鍍膜光弛機(jī)開、關(guān)機(jī)作業(yè)指導(dǎo)書。答：開機(jī)1、 開機(jī)前確認(rèn)：開機(jī)前先確認(rèn)冷卻水壓力0.2MPA和溫度V 25C、壓縮空氣壓力 0.5MPA、電壓200V± 15%是否正常，正常后打開機(jī)器總電源開關(guān)；然后再依次打開電子槍控制柜電源和 POLY COLD勺電源。2、 打開機(jī)器總電源后再按下主操作面板上的主電源按鈕，然后在觸摸屏上按下“泵啟動(dòng)/ 停止按鈕，啟動(dòng)模式切換為手動(dòng)模式； 再按下“泵抽氣按鈕。啟動(dòng)后，約90分鐘后“泵 加熱'按鈕燈自動(dòng)點(diǎn)亮。完成泵的

34、準(zhǔn)備工作。關(guān)機(jī)1、自動(dòng)關(guān)機(jī)：檢查確認(rèn)真空室內(nèi)無(wú)其他非使用物品，關(guān)閉真空室門，在泵“啟動(dòng)/停止界面下的泵啟動(dòng)模式內(nèi)按下“自動(dòng)停止"按鈕， 顯示確認(rèn)畫面，按“是"按鈕后裝置進(jìn)入排氣狀態(tài)，排氣完成后，約 1.5小時(shí)FV、MBP RP自動(dòng)關(guān)閉，約2小時(shí)后裝置停止，之冷卻閥關(guān) 閉。2、手動(dòng)關(guān)機(jī)：手動(dòng)關(guān)機(jī)可不對(duì)真空室排氣，在“抽氣界面內(nèi)的抽氣模式下按下“手動(dòng)按鈕，然后按下“ DP ,過(guò)1.5小時(shí)以后依次按下“ FV MBP，間隔30秒再按下“ RP , 然后再按下豬操作面板上的主電源 “關(guān)按鈕，在關(guān)閉機(jī)器控制柜總電源開關(guān)， 手動(dòng)關(guān)機(jī)完 成。24. 請(qǐng)簡(jiǎn)述光弛機(jī)晶振片換裝作業(yè)要點(diǎn)。答：1

35、、拆卸 左手托住防污蓋板，右手?jǐn)Q下固定螺絲取下防污板；用左手手指托住晶振絕 熱銅罩，右手用內(nèi)六角或一字螺絲刀擰松兩邊固定螺絲，將其取下。注意：為防止?fàn)C傷，拆卸防污罩時(shí)請(qǐng)帶上隔熱手套；擰螺絲時(shí)注意使用力度，防止擰滑螺絲內(nèi)六角扳手插到螺13 / 16絲的底部用左手手指托住晶振傳感器托盤， 右手用內(nèi)六角扳手?jǐn)Q松中央的六角螺絲， 卸下晶振傳感器 托盤；用十字螺絲刀拆下托盤后面的 3個(gè)螺絲，別離托盤的上下局部， 將上局部彈簧朝上放 置在桌面上。翻轉(zhuǎn)托盤下半局部，將舊晶振片倒在白紙或綢布上面，然后再放回晶振盒中。注意：別離晶振傳感器時(shí)，注意上半局部的鍍金彈簧片不能弄站臟、變形，更不可斷裂；保證每一個(gè)彈簧的

36、三個(gè)腳的高度和彎曲度60度都相等；放置時(shí)應(yīng)將鍍金彈簧片朝上平放在工作臺(tái)上，嚴(yán)禁反放。取出晶振片時(shí)要小心，不可使其滑動(dòng)或掉落，使之劃傷或破裂2、清潔 清潔掉托盤底部的絕熱銅罩測(cè)定部開孔處周圍的膜料等污物，把清潔干凈后的部件放到無(wú)水酒精中浸泡，然后拿出用干凈綢布擦拭干凈，自然枯燥。注意：清潔工作有輔助房完成，采用氟化氫氨浸泡，各部件每次更換防污板時(shí)更換，在氟化氫氨溶液中浸泡20分鐘后用百潔布去除掉殘留的臟物。3、 組裝晶振傳感器托盤小心將六片新的晶振片放進(jìn)晶振傳感器托盤下半局部的晶振底座內(nèi)，輕輕蓋上托盤上半局部，將托盤上半局部的六個(gè)彈簧片各個(gè)對(duì)準(zhǔn)底座內(nèi)的每一個(gè)晶振片， 上下螺絲孔對(duì)齊，然后用左手手

37、指輕輕壓下，右手用十字螺絲刀擰上固定托盤上下局部的三 顆鍍金螺絲，組裝好晶振傳感器托盤。注意：放如新的晶振片時(shí)要特別小心，可把晶振盒口對(duì)準(zhǔn)晶振底座的晶振片槽輕輕倒進(jìn)晶振片，也可用竹夾夾住晶振片邊緣把其放進(jìn)晶振底座內(nèi)。晶振片不可放反，上下外表更不能劃傷、受污。螺絲不能擰得過(guò)緊，防止擰滑擰壞4、安裝 用手輕拿晶振傳感器托盤的邊緣，把其裝回機(jī)器內(nèi)，調(diào)整位置使托盤中軸上的缺口卡住擋塊后擰緊托盤中央的固定螺絲，然后裝上絕熱銅罩， 稍微擰緊其兩邊的固定螺絲，裝上防污蓋板。注意：晶振傳感器托盤中央的固定螺絲和絕熱銅罩兩邊的固定螺絲稍 微擰緊即可，防止螺絲擰滑，嚴(yán)禁過(guò)度用力。裝好后晶振片應(yīng)全部暴露在絕熱銅罩開孔X圍內(nèi)，否如此要拆下絕熱銅罩重新調(diào)整晶振傳感器托盤5、檢測(cè) 啟動(dòng)ACS系統(tǒng)后，點(diǎn)擊主操作畫面“水晶傳感檢測(cè)"按鈕進(jìn)入檢測(cè)畫面，選擇檢 查X圍1-6丨后點(diǎn)擊“檢查開始"。開始檢測(cè)，檢測(cè)完畢后，好的晶振片呈白色，不好的 呈黃色。另外滿載檢測(cè)過(guò)程中沒(méi)檢測(cè)的顯示灰色。檢測(cè)完成后點(diǎn)擊“完成'退出檢測(cè)畫面回到主菜單。注意：檢測(cè)完成后要記錄檢測(cè)結(jié)果，記錄不良晶振片的編號(hào)，在使用時(shí)跳過(guò)不 用，防止鍍