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1、器件制備基礎(chǔ)第1頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二4.1 制備過程1、清洗2、氧化3、擴(kuò)散或離子注入4、光刻5、薄膜沉積第2頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二1、清洗常用硅片清洗液號液:配方:NH4OH:H2O2:H2O=1:1:5-1:2:7 使用條件:805C,煮10分鐘 作用:去油脂,去光刻膠殘膜,去金屬離子和金屬原子號液:配方:HCl:H2O2:H2O=1:1:6-1:2:8 使用條件:805C,煮10分鐘 作用:去金屬離子和金屬原子號液:配方:H2SO4:H2O2=3:1 使用條件:12010C,煮15分鐘 作用:去油脂,去臘,去金屬離子和
2、金屬原子第3頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二2、氧化干氧:Si+O2=SiO2 膜層致密,理想的Si-SiO2界面,生長速度慢濕氧:Si+2H2O=SiO2+2H2 生長速度快,膜層致密性較差第4頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二2、氧化氧化系統(tǒng)的簡單說明圖第5頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二2、氧化(100)面和(111)面SiO2的氧化生長曲線第6頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二3、擴(kuò)散基本工藝流程第7頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二3、擴(kuò)散4.5 磷的液態(tài)源擴(kuò)散示意圖第8頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二3、擴(kuò)散 擴(kuò)散溫度900-1200C。 P源:POCl3, B源:BN,BO3 一般分為預(yù)擴(kuò)散和再擴(kuò)散預(yù)擴(kuò)散后:再擴(kuò)散后第9頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二4、光刻(1)涂膠(2)堅膜(3)掩膜板(4)瀑光 (5)顯影 負(fù)光刻膠:光照后發(fā)生聚合反應(yīng),難以去除 正光刻膠:光照后,感光劑發(fā)生分解,容易去除。第10頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二5薄膜沉積第11頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21分,星期二二、pn結(jié)二極管的制備第12頁,共13頁,2022年,5月20日,9點(diǎn)21
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