Ledit使用技巧

1、L-EDIT 使用技巧4.3 集成電路自動設(shè)計工具軟件掩模版圖編輯操作 利用計算集成電路自動設(shè)計工具軟件 L-EDIT 實現(xiàn)移相掩模圖形布局設(shè)計及交互式圖形編輯。Tanner Research,Inc.開發(fā)的一種很優(yōu)秀的集成電路設(shè)計工具 (Tanner IC Design Tools) 軟件，最大的特點是可用于任何個人計算機(PC機)、它不僅具有強大的集成電路設(shè)計、模擬驗證、版圖編輯和自動布局布線等功能，而且圖形處理速度快、編輯功能強、通俗易學、使用方便，很實用于任何個人進行集成電路設(shè)計或其它微細圖形加工的版圖設(shè)計工作。早期（1988）Tanner EDA Tools是一種可以運行于PC-DO

2、S或MS-DOS操作系統(tǒng)的IBM PC及其兼容機的交互式集成電路版圖設(shè)計工具軟件包、（當然也能運行于Macintoshcs蘋果機和帶X-windos的UNIX工作站），通過十多年的擴充、改進，幾乎每年都有一種新的修改版，到目前已經(jīng)推出到1988-2002 Tanner EDA 版本，其強大的EDA功能不比SUN 工作站上運行的Cadence設(shè)計軟件遜色，可以用來完成任何復(fù)雜度的IC設(shè)計，但它卻能夠運行于任何微機上的Windows 98/ Windows ME/ Windows NT/ Windows 2000/ Windows XP等各種操作系統(tǒng)平臺上，為設(shè)計軟件的普及、推廣、應(yīng)用創(chuàng)造了非常有

3、利的條件。教程以具有代表性的1998年Tanner EDA Tools 版本為基礎(chǔ)對Tanner集成電路設(shè)計工具軟件作全面的介紹，拋磚引玉，讀者可以在此基礎(chǔ)上，對其他版本功能作進一步探討。整個設(shè)計工具大體上可以歸納為兩大部分，即以S-Edit為核心的集成電路設(shè)計、模擬、驗證模塊和以L-Edit為核心的集成電路版圖編輯與自動布圖布線模塊。前者包括電路圖編輯器S-Edit、電路模擬器T-Spice和高級模型軟件、波形編輯器W-Edit、NetTran網(wǎng)表轉(zhuǎn)換器、門電路模擬器GateSim以及工藝映射庫、符合庫SchemLib、Spice元件庫等軟件包，構(gòu)成一個完整的集成電路設(shè)計、模擬、驗證體系，每

4、個模塊互相關(guān)聯(lián)又相對獨立，其中S-Edit可以把設(shè)計的電路圖轉(zhuǎn)換成SPICE，VHDL，EDIF和TPR等網(wǎng)表文件輸出，提供模擬或自動布圖布線。后者則是包括集成電路版圖編輯器L-Edit和用于版圖檢查的網(wǎng)表比較器LVS等模塊，L-Edit本身又嵌入設(shè)計規(guī)則檢查DRC、提供用戶二次開發(fā)用的編輯界面UPI、標準版圖單元庫及自動布圖布線SPR、器件剖面觀察器Cross Section Viewer、版圖的SPICE網(wǎng)表和版圖參數(shù)提取器Extract(LPE)等等，網(wǎng)表比較器LVS則用于把由L-Edit生成的版圖反向提取的SPC網(wǎng)表和由S-Edit設(shè)計的邏輯電路圖輸出的SPC網(wǎng)表進行比較實現(xiàn)版圖檢查、

5、對照分析。L-Edit 除了擁有自己的中間圖形數(shù)據(jù)格式（TDB格式）外，還提供了兩種最常用的集成電路版圖數(shù)據(jù)傳遞格式（CIF格式和GDSII格式）的輸入、輸出功能，可以非常方便地在不同的集成電路設(shè)計軟件之間交換圖形數(shù)據(jù)文件或把圖形數(shù)據(jù)文件傳遞給光掩模制造系統(tǒng)。還要特別提到的是在國內(nèi)已具有很高知名度的集成電路版圖編輯器L-Edit（Layout Editor）。L-Edit是整個Tanner EDA Tools 的基礎(chǔ)，目前Tanner集成電路設(shè)計工具軟件就是在1988年開發(fā)的最早版本交互式圖形編輯軟件L-Edit的基礎(chǔ)上逐漸發(fā)展、完善起來的。首先是經(jīng)過以V2.00到V4.00系列為代表的純 D

6、OS版本軟件，后來開發(fā)了以V5.00為代表的 DOS版本，可在Windows下調(diào)用，進而又開發(fā)了以V6.00為代表的WIN3X版本，隨著微軟的各種Windows版本的相繼出現(xiàn)，Tanner Research也相繼推出了V7.00和V8.00系列產(chǎn)品，其中有代表性的是1998年推出的V7.50 、2000年推出的V8.30、2002年推出的V8.50及2003年又推出9.0和10.0幾種版本。L-Edit V7.50是一個很典型的版本，具有非常友好的Windows界面和方便的繪圖能力，增加了以往版本不具有的任意扇區(qū)和圓環(huán)繪制功能和參考標尺生成器，具有直接調(diào)用 SPR和DRC及TXT的按鈕，而且還

7、提供了為圖形編輯器進行二次開發(fā)的用戶編輯界面UPI，用戶可以自行開發(fā)更加復(fù)雜的圖形編輯功能，極大地擴展了L-Edit的能力和靈活性。L-Edit V8.30 版本又突破以往只有256色的限制，實現(xiàn)了真彩色表現(xiàn)的能力，上下層圖形可以實現(xiàn)透明顯示，并且進一步完善了多層布線功能。L-Edit V8.50 版又增加了一個非常有用的圖形運算工具 X-Tools，例如：圖形A和B相加（OR）；圖形A被圖形B挖去（SUB）；圖形A和圖形B相互重疊部分挖去（XOR）；圖形A和圖形B相互重疊部分保留其余部分刪除（AND），為繪制復(fù)雜的閉合多義線圖形或圖形挖空操作提供很方便的工具。 以V2.11; V4.02和

8、V4.18為代表的純 DOS版本，必須在純 DOS系統(tǒng)中使用，需要真三鍵鼠標 (PC功能鍵)，AUTOEXEC.BAT文件只加入 AMOUSE一條外其它都刪除，CONFIG.SYS 文件只有 Files=20 Buffers=20 Device=Mouse.sys三條 ，最好啟用高端內(nèi)存 XMS Memory (Load EMM386.EXE)。最好采用具有上述最簡單的 DOS6.22 啟動引導軟盤啟動 DOS系統(tǒng)后，在硬盤上運行Ledit.exe軟件。以V5.00為代表的 DOS版本，但也可在WIN3X 和WIN9X下調(diào)用，如可以在WIN98下建立快捷方式運行K軟件，但三鍵鼠標必須設(shè)成MS功

9、能鍵，鼠標中鍵失效，采用 鍵盤Shift+Alt+鼠標左鍵 代替原鼠標中鍵功能。以V6.05為代表的WIN3X版本，可在WIN3X 和WIN9X下運行，如可以在WIN98下建立快捷方式運行Winledit.exe軟件，但三鍵鼠標也必須設(shè)成MS功能鍵，鼠標中鍵失效，采用 鍵盤Shift+Alt+鼠標左鍵 代替原鼠標中鍵功能。注意顯示彩色必須設(shè)置成 256色，否則不能正常工作。以 V7.50和 V8.00為代表的 WIN9X版本，要求在WIN9X下完整安裝，但簡易版可采用考貝到硬盤，再在 WIN98下建立快捷方式運行Ledit.exe軟件。該版本具有非常友好的 WINDOWS界面并增加了任意扇形和

10、環(huán)形的功能以及標尺，還具有直接調(diào)用 SPR和DRC及TXT的按鈕。其中原來 DOS版鼠標中鍵封閉解放圖形層的功能改為采用鼠標右鍵點擊圖形層選擇區(qū)出現(xiàn)的新選擇菜單執(zhí)行: Show 為封閉指定層或解除指定層的封閉; Show All為解放所有被封閉的圖形層; Hide All為封閉除指定層外其它所有的圖形層; Setup 為層名和層屬性的設(shè)置。L-Edit V8.30以后的版本又突破以往只有256色的限制，實現(xiàn)了真彩色表現(xiàn)的能力，上下層圖形可以實現(xiàn)透明顯示，并且進一步完善了多層布線功能。L-Edit V8.50 版又增加了一個非常有用的圖形運算工具 X-Tools，例如：圖形A和B相加（OR）；圖

11、形A被圖形B挖去（SUB）；圖形A和圖形B相互重疊部分挖去（XOR）；圖形A和圖形B相互重疊部分保留其余部分刪除（AND），為繪制復(fù)雜的閉合多義線圖形或圖形挖空操作提供很方便的工具。詳細軟件使用說明參見2002年11月北京希望電子出版社出版的高等院校電子技術(shù)教材“TANNER集成電路設(shè)計教程”。4.3.1 掩模原始子單元(Cell)圖形生成4.3.1.1 建立新文件(File)執(zhí)行 LEDIT批處理文件進入L-EDIT交互式圖形編輯介面 進入 File/Merge Setup 打開預(yù)先建立的掩模圖形設(shè)計環(huán)境文件LMK.TDB 進入 File/New 建立新創(chuàng)建圖形文件的文件名，如YXYM001

12、 注意: 建議所有文件名及單元名均采用大寫字符 若修改已建立的圖形文件 進入 File/Open 再輸入文件名4.3.1.2 建立新單元(Cell) 進入 Cell/New 建立新創(chuàng)建圖形原始單元名，如YSDY001 。4.3.1.3 設(shè)定單位a） 進入 Setup/Technology 進行單位設(shè)置。b） 首先確認單位選擇 OtherLambda 設(shè)在內(nèi)部單位模式。 c） 設(shè)置1個LEDIT內(nèi)部單位等于多少用戶設(shè)定的單位。 默認值為 1 Internal Unit (11) Lambda 表示 1個LEDIT內(nèi)部單位等于 1個用戶設(shè)定的單位。 1個LEDIT內(nèi)部單位，默認值相當屏幕上 1格。

13、 建議設(shè)置為 1 Internal Unit (11000) Lambda 即設(shè)置成1000個LEDIT內(nèi)部單位等于 1個用戶設(shè)定的單位。如果需要圖形鄰近效應(yīng)校正，曝光圖形需要尺寸再造(漲縮)，帶有斜線或曲線圖形一定要設(shè)置成1000個LEDIT內(nèi)部單位等于 1個用戶設(shè)定的單位。否則不能進行尺寸調(diào)整或不能保證制版精度甚至出現(xiàn)錯位及臺階。d） 設(shè)置數(shù)據(jù)輸出時 1用戶設(shè)定的單位等于多少微米 默認值設(shè)置 1 Lambda (11) Microns 即表示數(shù)據(jù)輸出時 1用戶設(shè)定的單位等于 1微米。也就是說設(shè)置1000格相當于 1微米。(表示屏幕顯示 1格等于 1納米)，這種設(shè)置可保證輸出圖形精度。4.3

14、.1.4 輸出倍率設(shè)定 如果需要改變輸出倍率(如×10倍輸出)， 可在數(shù)據(jù)處理完成后存盤前修改為: 1 Lambda (101) Microns 即表示數(shù)據(jù)輸出時 1用戶設(shè)定的單位等于 1微米。4.3.1.5 設(shè)定顯示格柵和顯示坐標小數(shù)點位置a） 進入 Setup/Design/Grid 進行屏幕顯示格柵設(shè)置。b） 在格柵顯示“Grid display”模塊中 設(shè)置Displayed Grid= 100 Internal Unit 屏幕顯示 1格等于 100個LEDIT內(nèi)部單位 。或者“Displayed”填充框中填入“0.100” Locator（標定單位-微米）。c） “Supp

15、ress grig less 8 pixel”表示圖形縮小到一個格柵只占顯示屏幕 8個像素時，屏幕上不顯示出格柵。d） 在鼠標與格柵關(guān)系“ Mouse grid ”模塊中，選擇鼠標指針“Cursor”運動方式：選擇“Snapping” 鼠標只能停留在規(guī)定的格點處，非格點處鼠標停不下來，為畫圖提供方便。例如設(shè)定“Mouse snap 0.100 Locator”，鼠標咬住0.1微米的格點, 鼠標在屏幕上是跳動的，即每跳動一格為0.1微米。選擇“ Smooth”，則鼠標為連續(xù)移動的狀態(tài)。e） 設(shè)置鼠標跳動步距 Mouse Suap Grid= 100 Internal Unit鼠標跳一步等于 10

16、0個LEDIT內(nèi)部單位 ?；蛘咴O(shè)置 “Mouse snap 0.100 Locator” （標定單位-微米）。f）設(shè)置標定單位 One Locator Unit= 1 Internal Unit 屏幕顯示坐標值 1.0 等于 1個LEDIT內(nèi)部單位。 (建議與設(shè)置 1 Internal Unit (11000) Lambda 相匹配) 設(shè)置成: One Locator Unit= 1000 Internal Unit 屏幕顯示坐標值 1.0 等于 1000個 LEDIT內(nèi)部單位 (=1.0微米)。屏幕顯示坐標值和實際值一致，比較直觀，不容易出錯。4.3.1.6 選擇需要處理的掩模圖形層(Lay

17、er)用鼠標器在模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇所要處理的層名（層號）。4.3.1.7 繪制圖形形狀模式選擇 用鼠標器在模式欄(Mode Bar)的作圖模式區(qū)(Object Area) 中選擇畫圖模式。包括矩形（最常用的圖形）。 圓形、圓環(huán)、扇區(qū)。 多邊形(直角多邊形、45度斜邊多邊形、任意拐角多邊形)，不允許交叉多邊形。 帶寬度的線條:( 直角拐彎線、45度斜線連接、任意拐角線) 因曝光時線頭部分容易出錯，建議采用多邊形畫線條。 無寬度的線條(因數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換時容易出錯，建議采用多邊形畫線條) 字符(因數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換時不承認，建議不用，或?qū)懺诜枪δ軐由献鲄⒖迹枰?/p>

18、出的字符要用矩形拼接構(gòu)成圖形曝光) 此時就可以使用鼠標器在設(shè)計區(qū)(Layout Area) 作圖。 可用選擇不同掩模層，設(shè)計其它層次相關(guān)的圖形。4.3.1.8 設(shè)計過程中常用操作 用 "+"或 "-"鍵放大縮小屏幕 用 "Home" 鍵可在全屏幕顯示完整圖形 用 ""、""、""、""鍵移動圖形 打 "Z"鍵后，用鼠標器左鍵在屏幕上拖動一小窗口，可放大觀察修改細部。 可鼠標器左鍵在某圖形上定位后，打 "Q"鍵使該坐標

19、清零，在用鼠標器在屏幕上檢查線寬或間距。二次打 "Q"鍵坐標值復(fù)原。 需要清除某些圖形時，用鼠標器右鍵在屏幕上選擇某個矩形或拖動窗口選擇一組圖形，進入 Edit/Cut 即可。4.3.1.9 鼠標器功能 建議采用邏輯真三鍵鼠標器（Logitech first Mouse ，Three button），如果沒有真三鍵鼠標器，則采用“Shift鍵+Alt鍵+鼠標器左鍵”組合代替鼠標器中鍵功能，但使用有所不便。 鼠標器左鍵功能: 點擊功能鍵、繪圖鍵、和Alt組合模擬中鍵 所有常規(guī)鼠標選擇功能及所有拖動繪圖功能。 在圖形區(qū)中按鍵盤Alt鍵的同時，按鼠標器左鍵可移動被選定的圖形位置、

20、邊或角 (黑邊圖形) (相當于只按鼠標器中鍵)， 在層選擇區(qū)按鍵盤Shift鍵+Alt鍵的同時，按鼠標器左鍵 (相當于Shift鍵+鼠標器中鍵)，此時除指定層外，其它層圖形全部都被封閉。 在層選擇區(qū)按鍵盤Alt鍵的同時，按鼠標器左鍵 (相當于只按鼠標器中鍵)，指定層被封閉。 鼠標器中鍵功能: 圖形拖動鍵、層封閉鍵 把鼠標指向被選定的圖形 (黑邊圖形) 中部任何部位，按鼠標器中鍵可拖動整個圖形移動。形狀不變。 把鼠標指向被選定的圖形 (黑邊圖形) 任何一條邊，按鼠標器中鍵可拖動該邊，改變形狀。 把鼠標指向圖形任何一個角點上，按鼠標器中鍵可拖動該點，改變形狀。 在層選擇區(qū)按鍵盤Shift鍵的同時，

21、按鼠標器中鍵(或Shift鍵+Alt鍵+鼠標器左鍵)，此時除指定層外，其它層圖形全部都被封閉。 在層選擇區(qū)只按鼠標器中鍵 (或按鍵盤Alt鍵的同時，按鼠標器左鍵)，指定層被封閉。 鼠標器右鍵功能: 圖形選擇鍵、層解放鍵 按鼠標器右鍵拖動窗口選擇一個或一組圖形。 在一組圖附近點擊鼠標器右鍵可依次選擇其中的某個圖形。 按鍵盤Shift鍵同時，再用鼠標右鍵可多次點擊不同的圖形也可實現(xiàn)一次選擇一組圖形。 用鼠標器右鍵，點掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中任何被封閉層的位置，該層被解放。在按鍵盤Shift鍵的同時，按鼠標器右鍵，此時所有層圖形全部都解放。4.3.1.10 圖形層的封閉與打開的操作 除

22、指定的圖形層外，封閉其它所以圖形層的操作用鼠標左鍵點模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇指定的圖形層，點鼠標右鍵打開圖形層操作菜單，用鼠標左鍵選擇“Hide All” (或者在三鍵鼠標中按鍵盤Shift鍵的同時，按鼠標器中鍵)，此時除指定層外，其它層圖形全部都被封閉。 打開被封閉的所以圖形層的操作 用鼠標左鍵點模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇需要操作的目標層位置（或任意層位置），點鼠標右鍵打開圖形層操作菜單，用鼠標左鍵選擇“Show All” (或者在三鍵鼠標中按鍵盤Shift鍵的同時，按鼠標器右鍵)，此時所有層圖形全部都

23、解放。 只對指定的圖形層進行封閉或打開的操作 用鼠標左鍵點模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇需要操作的目標層位置，點鼠標右鍵打開圖形層操作菜單，用鼠標左鍵選擇“Show All” ，此時被選擇的圖形層封閉，如果再用鼠標左鍵選擇“Show All” ，此時被選擇的圖形層又可以打開。其他圖形層狀態(tài)不變。4.3.2 含例化單元圖形的操作4.3.2.1 插入被例化單元(原始單元)圖形步驟 進入 Cell/New 建立新創(chuàng)建圖形單元名，如Cell001 進入 Cell/Instance 選擇某已建立的單元(如Cell002) 選 OK 在新創(chuàng)建單元(如 Cell002

24、)中加入某原始單元(如Cell001)。 (注意: 圖形坐標已變動，需要從新定位)4.3.2.2 進入修改圖形形態(tài)操作界面 進入 Edit/Edit Object(s)4.3.2.3 修改圖形位移參數(shù) Translation (Locator Units): X: 0 Y: 0 輸入0 0 使圖形坐標回零點。需要位移輸入相應(yīng)坐標值。4.3.2.4 修改圖形位相參數(shù) Coordinate system : Rotation :0.00 輸入圖形旋轉(zhuǎn)角度。 Mirro： 選擇圖形鏡像關(guān)系。4.3.2.5 修改圖形倍率參數(shù) Scale Factor: 1/1 倍率不變。4.3.2.6 設(shè)置分布重復(fù)圖

25、形單元陣列參數(shù) Array Parameters:Repeat count: 輸入X-Y分步重復(fù)個數(shù)。Delta (locator Units): 輸入X-Y步距?？缮芍貜?fù)單元圖形陣列。4.3.2.7 一個單元可以插入多個例化圖形的單元或多次插入同一個例化圖形的單元,還可以畫入新的圖形?？梢詫γ總€例化圖形的單元和新畫入的圖形進行選取及各種形態(tài)操作,實現(xiàn)圖形拼接合成。4.3.2.8 含例化圖形的單元還可以作為新的例化圖形的單元，組成多次嵌套關(guān)系的圖形。4.3.2.9 修改被例化單元(原始單元)圖形，可以使含例化圖形的單元陣列中所有單元都被修改。4.3.2.10 含例化圖形的單元中的圖形不可能逐

26、個多邊形或矩形進行修改，需要個別修改多邊形或矩形，必須把含例化圖形的單元壓平，取消嵌套關(guān)系。點擊 Cell/Flatten 把所有嵌套關(guān)系的單元圖形逐級代入展開，生成沒有任何嵌套關(guān)系的完整圖形 (簡稱 "粉碎" 或 "壓平")。壓平后單元變成不含例化圖形的單元，可以對任何多邊形或矩形進行操作。4.3.3 圖形繪制、修改操作4.3.3.1 鼠標拖動直接繪制法首先選擇繪制圖形形狀模式，比如選擇矩形、多邊形、圓形等繪圖模式，利用鼠標器在屏幕上移動，觀察屏幕右上角格點坐標值變化，當鼠標移動到需要的坐標值時點鼠標左鍵在屏幕上定位，一直按住鼠標左鍵并拖動鼠標到所需要

27、的坐標值松開鼠標左鍵。如果繪制多邊形，則是每點一次鼠標左鍵定位一個多邊形頂點，最后點鼠標右鍵完成一個多邊形繪制。這種繪制法適用于屏幕上出現(xiàn)格點，并且設(shè)置鼠標是跳動的模式，并只繪制整數(shù)格點的小圖形。繪制大圖形很不方便。4.3.3.2 鼠標拖動修改法 首先利用鼠標器右鍵在屏幕上點擊圖形,選擇一個孤立圖形 (圖形輪廓線變黑),或者新繪制一個大體尺寸的圖形。 把鼠標指向圖形中部任何部位，用Alt + 鼠標左鍵（或者Shift + Alt + 鼠標左鍵，此時可以在X或Y方向分別移動，也可以用三鍵鼠標器的中鍵）可拖動整個圖形移動。形狀不變。把鼠標指向圖形任何一條邊，用Alt + 鼠標左鍵可拖動該邊，改變形

28、狀，觀察坐標變化，同時打 "Z"鍵后，用鼠標器左鍵在屏幕上拖動一小窗口，逐漸放大再繼續(xù)按鼠標器中鍵再繼續(xù)拖動該邊，直到格點出現(xiàn)時觀察坐標達到所需要數(shù)值為止。把鼠標指向圖形任何一個角點上，用Alt + 鼠標左鍵可拖動該點，改變形狀，觀察坐標變化，同時打鍵盤 "Z"鍵后，用鼠標器左鍵在屏幕上拖動一小窗口，逐漸放大再繼續(xù)按鼠標器中鍵再繼續(xù)拖動該點，直到格點出現(xiàn)時觀察坐標達到所需要數(shù)值為止。為繪制方便可以事先利用參考標像層或在其他圖形層上繪制作為參考用的圖形。利用參考標像層的圖形進行精確定位。4.3.3.3 輸入坐標修改法首先利用鼠標器右鍵在屏幕上點擊圖形,選擇

29、一個孤立圖形 (圖形輪廓線變黑),或者新繪制一個大體尺寸的圖形。進入 Edit/Edit Object 修改矩形對角點的 X-Y坐標值，多邊形的各個頂點的X-Y坐標值、圓心X-Y坐標值及半徑等數(shù)值，精確繪制圖形。4.3.4 圖形形態(tài)變換及處理的操作4.3.4.1 被選擇的圖形移動操作a) 打開Draw/Move By/Move amount (Locator Units) 輸入X-Y坐標值。b) 打開 Draw/Nudga/ Left; Right; Up; Down可進行左、右、上、下的微小移動。4.3.4.2 被選擇的圖形旋轉(zhuǎn)操作a) 打開Draw/Rotate/ 90 degrees 相

30、對于被選擇的圖形的中心點逆時針旋轉(zhuǎn)90度。b) 打開Draw/Rotate/Rotate Selected Objects/Rotation angle-degrees（ Counterclockwise ）。 相對于被選擇的圖形的中心點逆時針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。c) 打開Draw/Rotate/Rotate Selected Objects/Rotation around/ 被選擇的圖形相對于指定的某點為旋轉(zhuǎn)中心進行逆時針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。 Center：相對于被選擇的圖形的中心點逆時針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。 Offset from center：被選擇的圖形中心點位

31、移X-Y值后，以這一點為旋轉(zhuǎn)中心進行逆時針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。 Absolute coordinates：被選擇的圖形中心點位移X-Y值后，以坐標原點為旋轉(zhuǎn)中心進行逆時針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。如果X-Y位移值為（0，0），則被選擇的圖形以坐標原點為旋轉(zhuǎn)中心進行逆時針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。4.3.4.3 被選擇的圖形鏡像操作a) 打開Draw/Plip/ Horizonal 進行圖形以 Y為軸鏡像處理 (左右對稱處理)。b) 打開Draw/Plip/ Vertical 進行圖形以 X為軸鏡像處理 (上下對稱處理)。4.3.4.4 對被選擇的圖形進行選擇性切割操作a) 打開Dr

32、aw/Slice/ Horizonal 對圖形進行平行于X方向的切割處理。b) 打開Draw/Slice/ Vertical 對圖形進行平行于Y方向的切割處理。 為了方便精確定位點，建議適當設(shè)置鼠標跳步參數(shù)進行配合。c) 打開Draw/Merge 對被選擇的圖形（或被切割的圖形）進行合并操作。4.3.5 復(fù)制、拷貝操作4.3.5.1 圖形層內(nèi)部被選擇的圖形復(fù)制a) 首先用鼠標選擇需要復(fù)制的圖形用鼠標器右鍵在屏幕上選擇某個矩形或拖動窗口選擇一組圖形。b) 點擊 Edit/Copy （或者Ctrl+C） 把圖形存入粘貼緩沖區(qū)(Paste-Buffer)。c) 點擊 Edit/Paste （或者Ct

33、rl+V） 即可調(diào)出存入粘貼緩沖區(qū)中的圖形(注意: 圖形坐標已變動)。d) 用Shift + Alt + 鼠標左鍵：把拖動圖形到需要安放的位置（可以采用參考層定位）。打 "Z"鍵后，用鼠標器左鍵在屏幕上拖動一小窗口，精確定位。若再點 Edit/Paste還可繼續(xù)調(diào)出存入粘貼緩沖區(qū)中的圖形，并按上述移動的間距兩倍的位置精確定位.以此類推可重復(fù)Copy多組圖形。4.3.5.2 把當前圖形層中被選擇的圖形復(fù)制到另外一個圖形層上的操作a) 首先用鼠標選擇需要復(fù)制的圖形用鼠標器右鍵在屏幕上選擇某個矩形或拖動窗口選擇一組圖形。b) 點擊 Edit/Copy （或者Ctrl+C） 把圖形

34、存入粘貼緩沖區(qū)(Paste-Buffer)。c) 用鼠標點擊圖層版中另外一個圖層。d) 點擊 Edit/Paste to Layer （或者Alt+V） 即可調(diào)出存入粘貼緩沖區(qū)中的圖形復(fù)制到該圖層上。(注意: 圖形坐標已變動)。e) 用Alt + 鼠標左鍵（Shift + Alt + 鼠標左鍵，此時可以在X或Y方向分別移動），把拖動圖形到需要安放的位置（可以采用參考層定位）。打 "Z"鍵后，用鼠標器左鍵在屏幕上拖動一小窗口，精確定位。4.3.5.3 不同層間選擇圖形或單元圖形(Cell)考貝a) 進入 Cell/Open 選擇需要拷貝的單元。b) 用鼠標左鍵點模式欄(Mod

35、e Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇所要拷貝的層位置，點鼠標右鍵打開圖形層操作菜單，用鼠標左鍵選擇“Hide All” ，此時除指定層外，其它層圖形全部都被封閉。c) 利用鼠標器右鍵在屏幕上拖動窗口選擇需要拷貝圖形 (圖形輪廓線變黑)，也可以用鼠標器點 Edit/Select All選擇該層的所有圖形。d) 用鼠標器進入 Edit/Copy （或者按Ctrl + C鍵）把該層選擇的圖形拷貝入寄存器，。e) 用鼠標左鍵點模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇拷貝的目標層位置，點鼠標右鍵打開圖形層操作菜單，用鼠標左鍵選擇“Show All”， 此

36、時所有層圖形全部都解放。f) 在按鍵盤 Alt鍵的同時，按 V鍵。完成層間單元圖形考貝，但圖形位置會有變化。g) 在按鍵盤 Alt鍵的同時，按住鼠標器左鍵拖動目標層新考貝圖形，讓它與被拷貝層的圖形對齊，注意要結(jié)合鍵盤 "Z"鍵，用鼠標器左鍵在屏幕上拖動一小窗口，逐漸放大再繼續(xù)按鍵盤 Alt鍵的同時，按住鼠標器左鍵拖動目標層新拷貝圖形，一直到格點出現(xiàn)后兩出真正對齊為止。4.3.5.4 同一文件內(nèi)單元圖形(Cell)考貝a) 進入 Cell/Copy 選擇需要考貝的單元如Cell001，b) 點OK窗口，輸入新單元名如Cell003，則生成新單元的坐標與原單元一致。4.3.5.

37、5 不同文件間單元圖形(Cell)考貝a) 進入 Cell/Copy 選擇需要考貝的單元如Cell001 ，b) 用鼠標點File窗口可選擇已被打開的另外一個文件YXYM002，并選定需要考貝的單元。c) 再點OK窗口，并輸入，d) 即可把文件YXYM002中的Cell001單元圖形復(fù)制到當前文件YXYM001中，生成新單元名Cell004的單元圖形。 如果當前文件中已存在相同的單元圖形名，會提示修改新的單元圖形名。.6 不同文件間的不同層間選擇圖形或單元圖形(Cell) 拷貝 不同文件間不能直接進行不同層間圖形拷貝，只能先采用 “4.3.5.5” 進行不同文件間單元圖形(Cell) 拷貝后,

38、再按照 “4.3.5.3 ” 的方法進行不同層間選擇圖形或單元圖形(Cell) 拷貝。4.3.6 圖形的布爾運算與圖形反轉(zhuǎn)L-Edit V8.50以上版本具有一個非常有用的圖形布爾運算工具 X-Tools，為繪制復(fù)雜的閉合多義線圖形、圖形挖空及圖形反轉(zhuǎn)操作提供很方便的工具。4.3.6.1 進入布爾運算模式a) 打開 Tools/UPILIB/X-Tools,進入布爾運算界面。b) 打開 “Option” 。c) 選擇 “Remove original polygon（s） after operation”，運算后刪除原來圖形，只留下運算結(jié)果，便于觀察。4.3.6.2 圖形A和B相加（Or,加法

39、）的運算a) 首先選擇一個圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ A”點紅。b) 再選擇另一個圖形，把“Boolean”中的“ B”點紅。c) 按 “A or B”，可實現(xiàn)圖形A和B相加，即A和B兩組所有圖形都加到一塊組成新的圖形。4.3.6.3 圖形A被圖形B挖去（SUB,減法）的運算a) 首先選擇一個大的圖形，把“Boolean”中的“ A”點紅。b) 再選擇另一個圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ B”點紅。c) 按 “A sub B”，可實現(xiàn)圖形A減B，即圖形A中挖去圖形B組成新的圖形。如果圖形B被圖形A完全包圍，則運算結(jié)果圖形A被圖形B挖空，利用這個功能可以實現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)操

40、作。如果圖形B包圍圖形A，則運算結(jié)果所有圖形都消失。如果圖形B只遮蓋圖形A的一部分，則運算結(jié)果圖形A被圖形B遮蓋的部分挖去。4.3.6.4 圖形A和圖形B相互重疊部分挖去（XOR）的運算a) 首先選擇一個圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ A”點紅。b) 再選擇另一個圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ B”點紅。c) 按 “A xor B”，可實現(xiàn)圖形A和B相互重疊部分挖去，A和B兩組所有沒有重疊的圖形都加到一塊組成新的圖形。4.3.6.5 圖形A和圖形B相互重疊部分保留其余部分刪除（AND）的運算a) 首先選擇一個圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ A”點紅。b) 再

41、選擇另一個圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ B”點紅。c) 按 “A and B”，可實現(xiàn)圖形A和B相互重疊部分保留，A和B兩組所有沒有重疊的圖形都被刪除。4.3.6.6 利用布爾運算工具 X-Tools進行圖形反轉(zhuǎn)的運算 利用 “” 圖形A被圖形B挖去（SUB,減法）運算的功能， a) 首先選擇需要被反轉(zhuǎn)的圖形。把“Boolean”中的“ B”點紅。b) 然后根據(jù)有效圖形加劃片道畫一個大的矩形把圖形B包圍起來，注意圖形邊緣對稱，把“Boolean”中的“ A”點紅。c) 再按 “A sub B”，可實現(xiàn)圖形B圖形反轉(zhuǎn)操作。4.3.7 圖形層間的布爾運算與圖形反轉(zhuǎn)利用已有的圖形層通過

42、運算產(chǎn)生新工藝圖形層的操作。 注意：這里只適用于矩形、45°/90°的多邊形或連線。不能處理圓形和任意角度的圖形。4.3.7.1 進入生成層設(shè)置操作a) 打開Setup/Layers/Derivation/Derived 進入生成層推導界面。b) 打開“Derivation”對話框，可以有四種推導類型： Boolean 采用布爾運算產(chǎn)生推導層。 Selection 采用圖形層選擇的方法產(chǎn)生推導層。 Area 采用圖形層面積計算的方法產(chǎn)生推導層。 Density 采用圖形層密度計算的方法產(chǎn)生推導層。4.3.7.2 采用布爾運算產(chǎn)生推導層a） 確認已經(jīng)有兩個以上圖形層有圖形數(shù)據(jù)

43、。b） 用鼠標左鍵點模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇將要生成的目標層位置。c） 選擇 “Boolean” 布爾運算方式。d） 選擇 “Enable Derivation” 激活推導。e） 在源圖層模塊 Source Layers（ Locator Units定位器單位-微米）中分別選擇各源圖層的層名及各種布爾運算參數(shù)： 打開“Layer” 選擇各層的層名，一次最多只能有三層圖形進行運算。多于三層的，可以采用其他層圖形與前三層圖形運算結(jié)果生成的新圖層合成運算。 如果要對該層圖形反轉(zhuǎn)，要在該層選擇“NOT”，進行“非” 運算。 如果該層圖形需要尺寸專程再造（即

44、圖形每邊漲縮設(shè)置的定位器單位，如-0.2,則該層所有圖形的邊緣每邊縮小0.2微米）。 “Operation”中選擇 “AND”,則生成的新圖層只有上下兩層重合的部分的圖形, 兩層沒有重合的部分去除。 “Operation”中選擇 “OR”,則生成的新圖層包含上下兩層所有的圖形，即兩層圖形進行加法運算。f） 確定完成布爾運算推導層的參數(shù)設(shè)置。4.3.7.3 進行布爾運算生成新圖層的操作a) 打開 Tools/Generate Layers 進入生成新圖層對話框。b) 在“Target”中選擇 “ Layer”，在其中下拉菜單中選擇生成新圖層的層名。（如果選中 “All Layer” ，則生成新圖

45、層時同時生成推導層的輪廓線圖形。）c）選中 “Delete derived layers”，則在生成新圖層時刪除推導層的圖形（在標像層上的各源圖層輪廓線），只留下生成新圖和源圖層。（如果不選中，還保留推導層的輪廓線圖形。）d） 掃描場（掃描格 Binning）參數(shù)設(shè)置 在 “Bin”中設(shè)置掃描格的尺寸（定位器單位-微米）。如果選中 “Merge objects after generation” ，則生成新圖為合并的圖形，（如果不選中，則生成新圖是按掃描場分割的圖形）。e） 按“OK”， 進行布爾運算, 運算結(jié)果生成新圖層, 新圖層和源圖層一樣可以進行各種處理。f） 要刪除生成的新圖層和推導層

46、的輪廓線，進行如下操作：打開 Tools/Clear Generated layers，進入刪除生成的新圖層和推導層圖形的 “Delete Objects on Generated Layers”對話框。選擇“ This Cell”刪除當前圖形單元中生成的新圖層和推導層的輪廓線。4.3.7.4 掩模圖形層的圖形反轉(zhuǎn)操作a) 要對圖形層進行圖形反轉(zhuǎn), 建議在設(shè)計掩模圖形時,每層圖形(包含每邊加半個劃片道)的最大點和最小點上各作一個位置相同、大小一樣的定位小矩形（尺寸可以是1 微米以下。用于保證數(shù)據(jù)處理時各層數(shù)據(jù)中心一致，并且可以確定圖形反轉(zhuǎn)的范圍。b） 參見“” 用鼠標左鍵點模式欄(Mode B

47、ar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇將要生成的目標層位置。c） 選擇 “Boolean” 布爾運算方式。d） 在源圖層模塊 Source Layers（ Locator Units定位器單位-微米）中選擇需要進行圖形反轉(zhuǎn)的層名。e） 選擇“NOT”，進行“非” 運算。f） 參見“” 打開 Tools/Generate Layers 進入生成新圖層對話框。g） 在“Target”中選擇 “ Layer”，在其中下拉菜單中選擇生成新圖層的層名。h） 選中 “Delete derived layers”，在生成新圖層時刪除推導層的圖形，只留下生成新圖和源圖層。i） 根據(jù)圖形復(fù)雜程度，在

48、 “Bin”中設(shè)置適當?shù)膾呙韪竦某叽?。j） 選中 “Merge objects after generation” ，生成新圖為合并的圖形。k） 按“OK” ，進行圖形反轉(zhuǎn)運算。4.3.8 利用宏進行圖形編輯功能的二次開發(fā)4.3.8.1 打開 Tools/Macro 進入宏界面。4.3.8.2 在 “Macro Files” 中打開 “Load”出現(xiàn)查找已經(jīng)編釋的宏文件。 例如：d：Ledit750-hyLeditdlg.dll。 把已經(jīng)編釋好的宏文件Leditdlg.dll讀入界面。4.3.8.3 選中d：Ledit750-hyLeditdlg.dll。 則自動選擇 “Macros：” 宏表

49、格中的“ Advance tool ” 。4.3.8.4 點擊 “Run” 運行編釋宏文件。 即出現(xiàn) “Advance tool ” 任意角度、任意曲線微光刻圖形生成工具條?？梢苑奖愕靥幚砀鞣N波帶片、園環(huán)、螺旋線、扇形、扇形環(huán)、橢圓、橢圓環(huán)、齒輪、條形碼以及由任意函數(shù)曲線組成的圖形。 參見 “4.4 任意角度、任意曲線微光刻圖形生成工具軟件模塊操作”。4.3.9 圖形拼接錯誤檢查操作4.3.9.1 備份原始LEDIT設(shè)計環(huán)境文件 Copy Ledit.tdb Ledit000.tdb4.3.9.2 修改設(shè)計規(guī)則集 由于原始LEDIT設(shè)計環(huán)境文件中包含的設(shè)計規(guī)則集是通用的完整集成電路設(shè)計規(guī)則，十

50、分復(fù)雜，對于僅僅用于微光刻圖形編輯來說，需要簡化設(shè)計規(guī)則集，修改成只檢查最小線寬和最細圖形間隙兩種最基本的設(shè)計規(guī)則。a） 打開 Tools/DRC 進入設(shè)計規(guī)則檢查對話框“Design Rule Check”。c） 按 “Setup”鈕，進入設(shè)計規(guī)則檢查對話框“Setup Design Rules“。d） 逐個選擇 “Rules List”中的設(shè)計規(guī)則條例，把激活規(guī)則復(fù)選框“Enable”中的“”去除，即把所有現(xiàn)成的設(shè)計規(guī)則全部去選，使原來的設(shè)計規(guī)則失效。e） 按 “Add rule” 鈕，新增設(shè)計規(guī)則，在“Rule：” 設(shè)計規(guī)則條例名稱填充框中自動生成的規(guī)則條例名稱“New Rule 0”為

51、改“Poly Min width”。并且確認規(guī)則復(fù)選框“Enable” 處激活狀態(tài)，即“”狀態(tài)。f） 在“Rule type” 中的最小線寬“Min width”選中。g） 把例外選擇“Ignore”中的45度銳角復(fù)選框“45 degree acute angle” 選中，允許45度以下銳角出現(xiàn)。h） 在定義最小允許圖形邊長尺寸填充框“Rule distance”中填允許尺寸，例如“0.100”，單位選擇用戶設(shè)定的單位“Lambda”或者“Microns”。i） 在設(shè)計規(guī)則圖層選擇“Rule layers”中 “Layer1” 的圖形層選擇下拉菜單中選擇“Poly”層。j） 按上述同樣步驟建立

52、新的最細圖形間隙（Spacing）設(shè)計規(guī)則條例（ Poly Spacing）。k）按“OK”鈕，完成最小線寬和最細圖形間隙兩種最基本的設(shè)計規(guī)則參數(shù)設(shè)置。4.3.9.3 建立圖形拼接錯誤檢查規(guī)則環(huán)境 在完成最小線寬和最細圖形間隙兩種最基本的設(shè)計規(guī)則參數(shù)設(shè)置后，打開File/Save As， 重新生成微光刻圖形編輯專用設(shè)計環(huán)境文件 Ledit.tdb和它的備份文件LeditDRC.tdb。(也可以修改成自己習慣的各種常用參數(shù)的設(shè)計環(huán)境文件，例如包括修改圖形層的顏色配制、設(shè)計格柵配制、顯示及鼠標配制和GDS格式規(guī)定的數(shù)字圖形層名等)。4.3.9.4 用微光刻圖形編輯專用設(shè)計環(huán)境文件檢查版圖圖形拼接錯

53、誤a) 采用上述建立的設(shè)計環(huán)境文件啟動LEDIT。b） 打開 Tools/DRC 進入設(shè)計規(guī)則檢查對話框“Design Rule Check”。c） 按 “Setup”鈕，進入設(shè)計規(guī)則檢查對話框“Setup Design Rules“。d） 根據(jù)設(shè)計需要在定義最小允許圖形邊長尺寸填充框“Rule distance”中修改允許尺寸，例如“1.000”微米。按“OK“鈕確認，修改后的最小線寬和最細圖形間隙允許尺寸。回到設(shè)計規(guī)則檢查對話框“Design Rule Check”。e） 根據(jù)圖形大小和復(fù)雜情況，修改掃描場格子尺寸 “Bin 50.000 Locator”，按“OK確定”鈕開始進行圖形拼接

54、錯誤檢查。f） 如果圖形中有圓形或任意多邊形，將會出現(xiàn)提醒信息： “L-Edit Warning Found in Cell0. Circles. All Angle Polygons. These objects will be ignored. Do you want to Proceed?” 按“Yes to All”鈕通過。g） 演算后將出現(xiàn)檢查到拼接錯誤結(jié)果的信息：“L-Edit 8 DRC errors found?！蓖▓笥卸嗌偬幊霈F(xiàn)拼接錯誤。按“OK確定”鈕，出現(xiàn)圖形拼接錯誤檢查結(jié)果圖示。h）用鼠標點擊標示的圖形拼接錯誤處，可檢查錯誤信息。并進行人工修改。i）把所有圖形拼接錯誤修

55、改完畢后，打開 Tools/Clear Error Layer進入“Delete Objects on Error Layer”按“OK確定”鈕，刪除錯誤信息標像層。4.3.10 圖形文件輸入、輸出操作4.3.10.1 頂層單元圖形生成操作圖形處理完成后，需要確認一個“頂層單元”，并且把它內(nèi)部所有嵌套關(guān)系的例化單元圖形逐級代入展開，生成沒有任何嵌套關(guān)系的完整圖形 (簡稱 “粉碎” 或 “壓平”)，同時有對“頂層單元”進行標識。步驟如下：a） 打開 Cell/Copy ，選擇已設(shè)計完成準備提供制版的合成單元，復(fù)制一個新圖形單元作為“頂層單元”，建議“頂層單元”的單元名與將來提供制版用的制版文件名稱一致，為制版數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換時輸入結(jié)構(gòu)名方便，要求用大寫字符。b） 打開 Cell/Open ，選擇“頂層單元”，使“頂層單元”，。c） 點擊 Cell/Flatten ，完成例化單元嵌套關(guān)系壓平。生成加后綴(Flat) 的新單元名。d） 打開 Cell/ Fabricate ， 選擇已粉碎的頂層單元，把它標識為供制版用的頂層單元。4.3.10.2 存儲TDB格式的備份文件和準備修改的文件a) 點擊 File/Save , 存儲TDB格式備份文件。b） 打開 File/Save As ，另外存儲一個提供與制版文件名稱一致的T