GB/T 34504-2017藍寶石拋光襯底片表面殘留金屬元素測量方法

ICS77040

H17.

中華人民共和國國家標準

GB/T34504—2017

藍寶石拋光襯底片表面

殘留金屬元素測量方法

Measurementmethodforsurfacemetalcontaminationonsapphire

polishedsubstratewafer

2017-10-14發(fā)布2018-05-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標準化管理委員會

GB/T34504—2017

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準由全國半導體設(shè)備和材料標準化技術(shù)委員會與全國半導體設(shè)備和材料標準

(SAC/TC203)

化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會共同提出并歸口

(SAC/TC203/SC2)。

本標準起草單位天通控股股份有限公司

:。

本標準主要起草人康森宋巖巖邵峰沈瞿歡於震杰

:、、、、。

Ⅰ

GB/T34504—2017

藍寶石拋光襯底片表面

殘留金屬元素測量方法

1范圍

本標準規(guī)定了藍寶石拋光襯底片表面深度為以內(nèi)的殘留金屬元素的全反射光熒光光譜測

5nmX

試方法

。

本標準適用于藍寶石拋光襯底片表面殘留的在元素周期表中號除去鋁和氧

、11(Na)~92(U)(),

且面密度在92152范圍內(nèi)元素的定量測量其他用途藍寶石拋光片表面殘

10atoms/cm~10atoms/cm。

留金屬元素的測量可參照本標準執(zhí)行

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

純氮高純氮和超純氮

GB/T8979—2008、

半導體材料術(shù)語

GB/T14264

潔凈廠房設(shè)計規(guī)范

GB50073—2013

3術(shù)語定義和縮略語

、

界定的以及下列術(shù)語定義和縮略語適用于本文件

GB/T14264、。

31術(shù)語和定義

.

311

..

掠射角glancingangle

全反射光熒光光譜測試方法中射線的入射角度

X(TXRF)X。

312

..

角掃描anglescan

作為掠射角函數(shù)對發(fā)射的熒光信號的測量

,。

313

..

臨界角criticalangle

能產(chǎn)生全反射的最大角度當掠射角小于這一角度時被測表面發(fā)生對入射射線的全反射

,,X。

32縮略語

.

全反射光熒光光譜

TXRFX(totalreflectionX-rayfluorescence)

4方法原理

41的激發(fā)是以入射角小于的原級射線掠射激發(fā)樣品臺上的樣品入射的射線通過

.TXRF0.1°X。X

樣品表面發(fā)生全反射由此激發(fā)出來的射線熒光通過探測器進行探測再通過光譜儀進行定

,XSi(Li),

量分析射線的損耗波穿過樣品表層呈指數(shù)遞減衰減強度與樣品的表面粗糙度總