T/CEMIA 015-2018光纖預(yù)制棒用四氯化硅容器清洗技術(shù)規(guī)范

ICS3318010

M33..

團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)

T/CEMIA015—2018

光纖預(yù)制棒用四氯化硅容器清洗技術(shù)規(guī)范

Technicalspecificationforcontainercleaningofsilicontetrachloridefor

opticalfiberpreform

2018-12-28發(fā)布2019-03-28實(shí)施

中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì)發(fā)布

T/CEMIA015—2018

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別這些專利的責(zé)任

。。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì)提出并歸口

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位洛陽(yáng)中硅高科技有限公司中天科技精密材料有限公司上海正帆科技股份

:、、

有限公司青海中利光纖技術(shù)有限公司江蘇亨通光導(dǎo)新材料有限公司通鼎互聯(lián)信息股份有限公司威

、、、、

海長(zhǎng)和光導(dǎo)科技有限公司有研國(guó)晶輝新材料有限公司多晶硅材料制備技術(shù)國(guó)家工程實(shí)驗(yàn)室

、、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人趙雄嚴(yán)大洲王磊趙宇郭樹虎陳婭麗李東升謝康肖華蔣錫華于景明

:、、、、、、、、、、、

莫杰萬燁常欣梁君周小紅湯劍波衛(wèi)曉明劉見華張園園

、、、、、、、、。

Ⅰ

T/CEMIA015—2018

光纖預(yù)制棒用四氯化硅容器清洗技術(shù)規(guī)范

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了光纖預(yù)制棒用四氯化硅產(chǎn)品容器清洗的設(shè)施和材料清洗條件清洗及質(zhì)量控制的

、、

要求

。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于光纖預(yù)制棒用四氯化硅充裝容器的清洗光纖預(yù)制棒用四氯化鍺半導(dǎo)體用三氯氫

,,

硅二氯二氫硅六氯乙硅烷等液體化工產(chǎn)品容器的清洗可參照使用

、、。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

氣體中微量水分的測(cè)定第部分光腔衰蕩光譜法

GB/T5832.33:

氣體中微量氧的測(cè)定電化學(xué)法

GB/T6285

電子級(jí)水

GB/T11446.1

潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境第部分空氣潔凈度等級(jí)

GB/T25915.11:

特種氣體系統(tǒng)工程技術(shù)規(guī)范

GB50646—2011

光纖預(yù)制棒用四氯化硅

T/CEMIA001

3設(shè)施和材料

31清洗裝置通過噴射高壓高純水去除容器表面顆粒及金屬毛刺的裝置

.:,。

32干燥裝置具有足夠空間的烘箱以及能夠充氣排氣抽真空的輔助設(shè)施的組合

.:、、。

33殘液回收裝置具備能夠?qū)⑷萜鲀?nèi)殘余物料壓空置換吹掃抽真空等功能的系統(tǒng)裝置

.:、、、。

34尾氣處理裝置將充裝回收烘干系統(tǒng)產(chǎn)生的尾氣進(jìn)行水解中和并達(dá)標(biāo)排放的系統(tǒng)裝置

.:、、、,。

35高純水符合級(jí)的要求

.:GB/T11446.1EW-1。

36高純氣體氮?dú)鈿鍤饣蚱渌栊詺怏w純度含水量

.:、,≥99.9999%,≤0.1μL/L。

4清洗條件

出現(xiàn)下列情況之一時(shí)容器應(yīng)進(jìn)行清洗

,:

達(dá)到清洗期限的一般為年

a)(3);

經(jīng)第三方檢定或拆裝返回本單位后

b),;

盛裝了非光纖預(yù)制棒用四氯化硅產(chǎn)品后

c);

受到污染或充裝后產(chǎn)品質(zhì)量不符合要求的

d);

經(jīng)過維修改